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講演抄録/キーワード
講演名 2009-07-17 12:00
低接触抵抗ポリSiダイオード駆動の4F2クロスポイント型相変化メモリ
笹子佳孝木下勝治森川貴博黒土健三半澤 悟峰 利之島 明生藤崎芳久久米 均守谷浩志高浦則克鳥居和功日立SDM2009-112 ICD2009-28 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2009-112 ICD2009-28
抄録 (和) ポリSiダイオード駆動のクロスポイント型相変化メモリの試作・電気特性評価を行った。低接触抵抗で駆動電流が8 MA/cm2以上と大きく、逆バイアスオフ電流が100 A/cm2以下と小さい選択素子ポリSiダイオードを低熱負荷プロセスで作製した。開発したポリSiダイオードにより、相変化メモリチップの面積縮小と低コスト化を実現するクロスポイント型4F2相変化メモリセルのセット/リセット動作を可能にした。 
(英) We have fabricated the cross-point phase change memory with a selection diode made of poly-Si. The selection diode was fabricated using a low-thermal-budget process that achieved low contact resistivity, high on-current density of 8 MA/cm2 and low off-current density of 100 A/cm2. The improvement in the properties of poly-Si diode makes the set/reset operation of the cross-point 4F2 cell possible, leading to the size reduction of phase change memory chip.
キーワード (和) 相変化メモリ / ポリSiダイオード / クロスポイント / / / / /  
(英) phase change memory / poly-Si diode / cross-point / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 133, SDM2009-112, pp. 79-83, 2009年7月.
資料番号 SDM2009-112 
発行日 2009-07-09 (SDM, ICD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2009-112 ICD2009-28 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2009-112 ICD2009-28

研究会情報
研究会 ICD SDM  
開催期間 2009-07-16 - 2009-07-17 
開催地(和) 東工大 大岡山キャンパス 国際交流会館 
開催地(英) Tokyo Institute of Technology 
テーマ(和) 低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用 
テーマ(英) Low voltage/low power techniques, novel devices, circuits, and applications 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2009-07-ICD-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 低接触抵抗ポリSiダイオード駆動の4F2クロスポイント型相変化メモリ 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Cross-Point phase change memory with 4F2 cell size driven by low-contact resistivity poly-si diode 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 相変化メモリ / phase change memory  
キーワード(2)(和/英) ポリSiダイオード / poly-Si diode  
キーワード(3)(和/英) クロスポイント / cross-point  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 笹子 佳孝 / Yoshitaka Sasago / ササゴ ヨシタカ
第1著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 木下 勝治 / Masaharu Kinoshita / キノシタ マサハル
第2著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 森川 貴博 / Takahiro Morikawa / モリカワ タカヒロ
第3著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 黒土 健三 / Kenzo Kurotsuchi / クロツチ ケンゾウ
第4著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 半澤 悟 / Satoru Hanzawa / ハンザワ サトル
第5著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 峰 利之 / Toshiyuki Mine / ミネ トシユキ
第6著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 島 明生 / Akio Shima / シマ アキオ
第7著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤崎 芳久 / Yoshihisa Fujisaki / フジサキ ヨシヒサ
第8著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 久米 均 / Hitoshi Kume / クメ ヒトシ
第9著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 守谷 浩志 / Hiroshi Moriya / モリヤ ヒロシ
第10著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 高浦 則克 / Norikatsu Takaura / タカウラ ノリカツ
第11著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) 鳥居 和功 / Kazuyoshi Torii / トリイ カズヨシ
第12著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-07-17 12:00:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2009-112, ICD2009-28 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.133(SDM), no.134(ICD) 
ページ範囲 pp.79-83 
ページ数
発行日 2009-07-09 (SDM, ICD) 


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