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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2009-07-31 14:10 軟X線照射を用いたシリコンマイクロホン電荷蓄積技術の開発 ○後藤正英・萩原 啓（NHK）・井口義則（NHKエンジニアリングサービス）・安野功修・児玉秀和（小林理研）・樹所賢一（リオン）・田島利文（NHK）  ED2009-115 エレソ技報アーカイブへのリンク：ED2009-115 |
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| 抄録 | （和） | 次世代の超小型で高性能なマイクロホンの実現に向けて、シリコンマイクロホンの研究を進めている。これまでに、単結晶シリコンによる独自のMEMS技術で試作した放送用のシリコンマイクロホンが、優れた音響特性と耐環境性能をもつことを確認した。今回、本マイクロホンの機動性の向上を目的に、電荷をマイクロホンの内部に蓄積してバイアス電圧の印加を不要にできる電荷蓄積型シリコンマイクロホンの開発に取り組み、軟Ｘ線照射を用いた新しい電荷蓄積技術を開発した。原理実証の実験を行った結果、マイクロホン内部の誘電体膜に電荷を蓄積できることと、この膜が優れた電荷保持特性をもつことを確認したので報告する。 |
| （英） | Toward an ultraminiature high-performance microphone for the next generation, we are studying a silicon microphone. We previously fabricated a single-crystalline silicon microphone using original MEMS technology, and showed that it has superior characteristics including a wide dynamic range. In recent research, with the aim of low-voltage operation for this microphone, we developed a charge storage technique using soft X-rays. This technique leads to reduction of a 48-V bias voltage. Experimental results show that internal inorganic dielectric film storages and keeps electric charges, which indicates that this dielectric film becomes electrets. This technique shows promise as a low-voltage operation silicon microphone. | |
| キーワード | （和） | シリコンマイクロホン / MEMS / 軟Ｘ線 / 電荷蓄積 / エレクトレット / / / |
| （英） | Silicon Microphone / MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) / Soft X-rays / Charge Storage / Electrets / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 109, no. 157, ED2009-115, pp. 69-73, 2009年7月. | |
| 資料番号 | ED2009-115 | |
| 発行日 | 2009-07-23 (ED) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2009-115 エレソ技報アーカイブへのリンク：ED2009-115 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2009-07-30 - 2009-07-31 |
| 開催地（和） | 大阪大学（銀杏会館） |
| 開催地（英） | Osaka Univ. Icho-Kaikan |
| テーマ（和） | センサーデバイス，MEMS，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2009-07-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 軟X線照射を用いたシリコンマイクロホン電荷蓄積技術の開発 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Charge storage technique using soft X-rays for silicon microphone |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | シリコンマイクロホン / Silicon Microphone |
| キーワード(2)（和/英） | MEMS / MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) |
| キーワード(3)（和/英） | 軟Ｘ線 / Soft X-rays |
| キーワード(4)（和/英） | 電荷蓄積 / Charge Storage |
| キーワード(5)（和/英） | エレクトレット / Electrets |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 後藤 正英 / Masahide Goto / ゴトウ マサヒデ |
| 第1著者 所属（和/英） | NHK放送技術研究所 (略称： NHK) NHK Science & Technical Research Laboratories (略称： NHK) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 萩原 啓 / Kei Hagiwara / ハギワラ ケイ |
| 第2著者 所属（和/英） | NHK放送技術研究所 (略称： NHK) NHK Science & Technical Research Laboratories (略称： NHK) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 井口 義則 / Yoshinori Iguchi / イグチ ヨシノリ |
| 第3著者 所属（和/英） | 財団法人 NHKエンジニアリングサービス (略称： NHKエンジニアリングサービス) NHK Engineering Services, Inc. (略称： NHK Engineering Services) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 安野 功修 / Yoshinobu Yasuno / ヤスノ ヨシノブ |
| 第4著者 所属（和/英） | 財団法人 小林理学研究所 (略称： 小林理研) Kobayashi Institute of Physical Research (略称： Kobayashi Institute of Physical Research) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 児玉 秀和 / Hidekazu Kodama / コダマ ヒデカズ |
| 第5著者 所属（和/英） | 財団法人 小林理学研究所 (略称： 小林理研) Kobayashi Institute of Physical Research (略称： Kobayashi Institute of Physical Research) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 樹所 賢一 / Kenichi Kidokoro / キドコロ ケンイチ |
| 第6著者 所属（和/英） | リオン株式会社 (略称： リオン) RION Co., Ltd. (略称： RION) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田島 利文 / Toshifumi Tajima / タジマ トシフミ |
| 第7著者 所属（和/英） | NHK放送技術研究所 (略称： NHK) NHK Science & Technical Research Laboratories (略称： NHK) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2009-07-31 14:10:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2009-115 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | no.157 |
| ページ範囲 | pp.69-73 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2009-07-23 (ED) |
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