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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2009-10-15 15:30 集束イオンビーム誘起堆積Pt冷陰極からの縞状電子放出パターンの観測 ○村上勝久・松尾智仁・若家冨士男・高井幹夫（阪大）  ED2009-120 |
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| 抄録 | （和） | 集束イオンビーム誘起堆積Pt冷陰極の電界放射特性と電子放出パターンを電界放射顕微鏡を用いて評価した。集束イオンビーム誘起堆積Pt冷陰極の電界放射特性は複数回の測定後に向上し、10μA以上の電界放射電流が得られた。複数回の測定後、電界放射顕微鏡像で縞状の電子放出パターンを観測した。これらの縞状の電子放出パターンは3つの電子波干渉の重ね合わせモデルで計算した干渉縞の二次元強度分布とよい一致を示した。これらの結果は、縞状の電子放出パターンは電子波の干渉パターンである可能性を示唆している。 |
| （英） | Field emission properties and electron emission patterns of Pt filed emitters fabricated by focused-ion-beam-induced deposition (FIBID) were investigated by field emission microscopy (FEM). The field emission properties of Pt field emitters fabricated by FIBID were improved after several measurements, resulting in a high emission current of more than 10 μA. The FEM image with fringelike electron emission patterns from Pt field emitters were observed after several measurements. The fringelike electron emission pattern was, further, in a good agreement with the simulated intensity profile of the superposition model of three interferences. These results indicated that the origin of the fringelike electron emission patterns was electron wave interference. | |
| キーワード | （和） | 集束イオンビーム誘起堆積 / 電界放射顕微鏡 / 電子波干渉 / / / / / |
| （英） | Focused Ion Beam Induced Deposition / Field Emission Microscopy / FIBID / FEM / Electron Wave Interference / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 109, no. 230, ED2009-120, pp. 21-25, 2009年10月. | |
| 資料番号 | ED2009-120 | |
| 発行日 | 2009-10-08 (ED) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2009-120 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2009-10-15 - 2009-10-16 |
| 開催地（和） | 福井大学 産学官連携本部（旧地域共同研究センター） ３階 研修室 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2009-10-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 集束イオンビーム誘起堆積Pt冷陰極からの縞状電子放出パターンの観測 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Observation of fringelike electron emission pattern emitted from Pt field emitter fabricated by focused-ion-beam-induced deposition |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 集束イオンビーム誘起堆積 / Focused Ion Beam Induced Deposition |
| キーワード(2)（和/英） | 電界放射顕微鏡 / Field Emission Microscopy |
| キーワード(3)（和/英） | 電子波干渉 / FIBID |
| キーワード(4)（和/英） | / FEM |
| キーワード(5)（和/英） | / Electron Wave Interference |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 村上 勝久 / Katsuhisa Murakami / ムラカミ カツヒサ |
| 第1著者 所属（和/英） | 大阪大学 (略称： 阪大) Osaka University (略称： Osaka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松尾 智仁 / Tomohito Matsuo / マツオ トモヒト |
| 第2著者 所属（和/英） | 大阪大学 (略称： 阪大) Osaka University (略称： Osaka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 若家 冨士男 / Fujio Wakaya / ワカヤ フジオ |
| 第3著者 所属（和/英） | 大阪大学 (略称： 阪大) Osaka University (略称： Osaka Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高井 幹夫 / Mikio Takai / タカイ ミキオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 大阪大学 (略称： 阪大) Osaka University (略称： Osaka Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2009-10-15 15:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2009-120 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | no.230 |
| ページ範囲 | pp.21-25 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2009-10-08 (ED) |
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