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講演抄録/キーワード
講演名 2009-11-13 13:45
1 Tbit/in2級微細磁性ドットアレイの形状が磁気特性、記録特性に及ぼす影響
有明 順近藤祐治秋田県産技総研センター)・石尾俊二秋田大)・本多直樹東北工大MR2009-30
抄録 (和) 1 Tbit/in2級のビットパターン媒体(BPM)作製のための作製プロセスや媒体設計上の課題抽出のため,微細磁性ドットアレイを電子線露光とArイオンミリングを用いて作製し,いくつかのドット形状に関する解析を行なった.ドットサイズの解析では,サイズのばらつきが標準偏差$\sigma$で1 nm程度存在することが明らかとなり,シミュレーション結果と合わせ5 kOe程度の異方性磁界の分散に相当することが分かった.ドットピッチの解析では,電子線露光の走査方向,それと直交する方向ともばらつきが5 %程度存在した.ドットピッチのばらつきは反転磁界分散(SFD)と比例関係にあるので,これを低減させる必要があることが分かった.また,電子線露光の走査方向の微小のうねりも標準偏差$\sigma$で2.6nm程度あり,ドットサイズやそのばらつきを考慮すると,隣接ドットとの静磁気結合が 影響し合う値であることが分かった.これらのプロセスに関するばらつきはいずれも磁気特性や記録特性に大きな影響を及ぼす可能性があり,超1 Tbit/in2のBPMを作製するうえでは,安定性や精度の非常に高いプロセスが要求される. 
(英) Fine magnetic dot arrays with an areal density around 1 Tbit/in2 were fabricated for obtaining fabrication process issues and design parameter of bit patterned media (BPM). In dot size analysis, a size distribution of about 1 nm of standard deviation existed. This distribution corresponds to about 5 kOe in Hk distribution in BPM from a simulated result. In dot period analysis, a dispersion value of about 5 % was found in both a scanning direction of EB exposure and a direction perpendicular to the scanning direction. Dot period dispersion must be reduced because it is proportional to switching field distribution (SFD) from a simulated result. Undulation analysis along an EB scanning direction in fine magnetic dots revealed that magnetostatic interaction can be occurred between dots in cross track direction. A very stable and accurate process is required for BPM fabrication at 1 Tbit/in2 and beyond.
キーワード (和) ビットパターン媒体 / 微細磁性ドットアレイ / 電子線リソグラフィ / ドット形状評価 / スイッチング磁界分散 / / /  
(英) bit patterned media / fine magnetic dot array / Electron beam lithography / dot shape analysis / switching field distribution / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, 2009年11月.
資料番号  
発行日 2009-11-06 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MR2009-30

研究会情報
研究会 ITE-MMS MRIS  
開催期間 2009-11-13 - 2009-11-13 
開催地(和) 早稲田大学 
開催地(英) Waseda Univ. 
テーマ(和) ハードディスクドライブおよび一般 
テーマ(英) HDD, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2009-11-MMS-MR 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 1 Tbit/in2級微細磁性ドットアレイの形状が磁気特性、記録特性に及ぼす影響 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Effect of magnetic dot shape in BPM on magnetic and R/W performance with 1 Tbit/in2 regime 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ビットパターン媒体 / bit patterned media  
キーワード(2)(和/英) 微細磁性ドットアレイ / fine magnetic dot array  
キーワード(3)(和/英) 電子線リソグラフィ / Electron beam lithography  
キーワード(4)(和/英) ドット形状評価 / dot shape analysis  
キーワード(5)(和/英) スイッチング磁界分散 / switching field distribution  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 有明 順 / Jun Ariake / アリアケ ジュン
第1著者 所属(和/英) 秋田県産業技術総合研究センター (略称: 秋田県産技総研センター)
Akita Research and Development Center (略称: Akita Research and Development Center)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 近藤 祐治 / Yuji Kondo / コンドウ ユウジ
第2著者 所属(和/英) 秋田県産業技術総合研究センター (略称: 秋田県産技総研センター)
Akita Research and Development Center (略称: Akita Research and Development Center)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 石尾 俊二 / Shunji Ishio / イシオ シュンジ
第3著者 所属(和/英) 秋田大学 (略称: 秋田大)
Akita University (略称: Akita Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 本多 直樹 / Naoki Honda / ホンダ ナオキ
第4著者 所属(和/英) 東北工業大学 (略称: 東北工大)
Tohoku Institute of Technology (略称: Tohoku Inst. of Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-11-13 13:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 MR2009-30 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.282 
ページ範囲 pp.7-12 
ページ数
発行日 2009-11-06 (MR) 


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