| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2009-11-19 16:10
UVレーザダイオードの動作電圧の低減 ○市川友紀・竹田健一郎・小木曽裕二・永田賢吾・岩谷素顕・上山 智・天野 浩・赤崎 勇(名城大)・吉田治正・桑原正和・山下陽滋・菅 博文(浜松ホトニクス) ED2009-142 CPM2009-116 LQE2009-121 |
| 抄録 |
(和) |
?族窒化物半導体AlGaNを用いた波長350nm以下の紫外(Ultraviolet : UV)レーザダイオード(Laser Diode : LD)は,大容量光記録媒体のピックアップ用,医療用,レーザ加工用の光源など幅広い応用が期待できる。AlGaNを用いたUVレーザダイオードでは拡散電位が大きいという本質的な問題に加え,電極形成プロセスにおける直流抵抗分の増加によって動作電圧が高くなる。安定した連続発振の実現にはプロセス最適化による低動作電圧化が必須である。プロセス工程を様々検討したところ,n電極金属を800 oC以上の高温で短時間アニールすることで,低動作電圧化が可能であることが分かった。すなわちnコンタクト層とn電極金属がオーミック接触となり接触比抵抗が低減したため低動作電圧化し,かつリーク電流が少ないことも確認した。 |
| (英) |
Annealing condition for n-type electrode in AlGaN-based UV LD was investigated. High temperature annealing is found to be effective to reduce contact resistance. Series resistance and operating voltage of UV LD can be successfully reduced by high temperature annealing of n-type electrode. |
| キーワード |
(和) |
AlGaN / GaN / 紫外 / レーザダイオード / 動作電圧 / / / |
| (英) |
AlGaN / GaN / ultraviolet / laser diode / operating voltage / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 109, no. 290, LQE2009-121, pp. 65-69, 2009年11月. |
| 資料番号 |
LQE2009-121 |
| 発行日 |
2009-11-12 (ED, CPM, LQE) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
ED2009-142 CPM2009-116 LQE2009-121 |