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講演抄録/キーワード
講演名 2010-01-22 09:05
電子ビーム静電偏向システムの低ノイズ方式設計
李 ウェン幕内雅巳今川健吾日立)・高橋弘之大南祐介郡司康弘日立ハイテクノロジーズEMCJ2009-111
抄録 (和) 電子やイオン等の荷電粒子ビームを用いた半導体製造・検査・計測装置および電子顕微鏡等の分析装置では,高速・高精度なビーム偏向制御技術が要求されている.ビーム偏向の高精度化に向けて偏向ずれを低減するには,偏向制御回路システムの低ノイズ化が必要である.本稿では,2段偏向機構を有する光学系の電子ビーム偏向軌道と偏向制御回路とをモデル化したノイズ伝播解析により,電子ビーム偏向ずれに対する偏向制御回路ノイズの影響についてメカニズムと寄与度を定量的に解明した.その結果,低ノイズ偏向制御回路方式として上下段偏向回路を共通化することによりビーム偏向ずれ量を2倍以上低減できることを明らかにした. 
(英) High resolution beam control technology has been required from ion or electron beam lithography, inspection apparatus, metrology apparatus and SEM. In order to decrease the beam deflection deviation, the control circuit must be design with low noise. The authors have quantitatively clarified the relationship between the circuit noise and the deviation for a double-stage and multi-pole deflector by analyzing the noise propagation with the electron-beam trajectory model and circuit model. As a result, the deviation can be decreased by half when there are as more common parts for the upper and lower control circuits as possible.
キーワード (和) 電子ビーム / 静電偏向 / 低ノイズ回路 / システム設計 / 偏向ずれ / / /  
(英) electron-beam / electrostatic deflection / low noise circuit / system design / deflection deviation / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 370, EMCJ2009-111, pp. 75-80, 2010年1月.
資料番号 EMCJ2009-111 
発行日 2010-01-14 (EMCJ) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMCJ2009-111

研究会情報
研究会 EMCJ  
開催期間 2010-01-21 - 2010-01-22 
開催地(和) 琉球大学50周年記念館 
開催地(英) University of the Ryukyus 
テーマ(和) 一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMCJ 
会議コード 2010-01-EMCJ 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 電子ビーム静電偏向システムの低ノイズ方式設計 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Low-Noise System Design for Electrostatic Deflection of Electron-beam 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 電子ビーム / electron-beam  
キーワード(2)(和/英) 静電偏向 / electrostatic deflection  
キーワード(3)(和/英) 低ノイズ回路 / low noise circuit  
キーワード(4)(和/英) システム設計 / system design  
キーワード(5)(和/英) 偏向ずれ / deflection deviation  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 李 ウェン / Wen Li / リ ウェン
第1著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Production Engineering Research Laboratory, Hitachi,Ltd (略称: PERL,HITACHI)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 幕内 雅巳 / Masami Makuuchi / マクウチ マサミ
第2著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Production Engineering Research Laboratory, Hitachi,Ltd (略称: PERL,HITACHI)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 今川 健吾 / Kengo Imagawa / イマガワ ケンゴ
第3著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Production Engineering Research Laboratory, Hitachi,Ltd (略称: PERL,HITACHI)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 弘之 / Hiroyuki Takahashi / タカハシ ヒロユキ
第4著者 所属(和/英) 株式会社 日立ハイテクノロジーズ (略称: 日立ハイテクノロジーズ)
Hitachi High-Technologies Corporation (略称: Hitachi High-Technologies)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 大南 祐介 / Yuusuke Ominami / オオミナミ ユウスケ
第5著者 所属(和/英) 株式会社 日立ハイテクノロジーズ (略称: 日立ハイテクノロジーズ)
Hitachi High-Technologies Corporation (略称: Hitachi High-Technologies)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 郡司 康弘 / Yasuhiro Gunji / グンジ ヤスヒロ
第6著者 所属(和/英) 株式会社 日立ハイテクノロジーズ (略称: 日立ハイテクノロジーズ)
Hitachi High-Technologies Corporation (略称: Hitachi High-Technologies)
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講演者 第1著者 
発表日時 2010-01-22 09:05:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 EMCJ 
資料番号 EMCJ2009-111 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.370 
ページ範囲 pp.75-80 
ページ数
発行日 2010-01-14 (EMCJ) 


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