お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2010-01-25 15:20
大脳皮質活性パターン比較分析から見たソフトウェア分析環境の特性分析
大木幹雄日本工大
抄録 (和) 本稿では,普及が進んでいる「大脳皮質の活性化状態を直接計測可能な光トポグラフィ装置」を用いて,分析モデリングに適した思考過程の支援環境構築を目指して行なった基礎実験の内容とその分析結果,および導き出された分析モデリングに有効と思われる頭脳作業の支援機能について紹介する.
大脳の高次脳機能については未だ究明されていない状況から,研究は大脳皮質前頭前野の活性化状態全体を一つの状態として捉え,その時間的な変化パターンのもつ特性に着目する方法をとっている.その上で基本的な単位となる幾つかの活性化遷移パターン(=基本パターン)の存在可能性やそれらのパターンの独立性,分析モデリングにおける基本パターンへの分解可能性,基本パターンとの相関性等について論じ,分析モデリングの思考過程に有効と思われる幾つかの支援機能(=判断を支援すべきルールの機能)の候補を明らかにしている. 
(英) Optical topography devices which can observe several activate patterns of cerebral cortex directly, are widely spreading in the medical research filed in a recent few years. Under this circumstance, the author has been researched a support environment of software modeling task from investigating brain activate patterns. This paper described several results of fundamental experiment by using the optical topography device and effective brain task supporting function resulted by considering relationship of software modeling task and unit brain task.
キーワード (和) 大脳皮質 / 活性化パターン / 光トポグラフィ / ソフトウェア分析 / / / /  
(英) cerebral cortex / Activated Pattern / optical topography / Software Analysi / / / /  
文献情報 信学技報
資料番号  
発行日  
ISSN  
PDFダウンロード

研究会情報
研究会 KBSE  
開催期間 2010-01-25 - 2010-01-26 
開催地(和) 筑波大学東京キャンパス 
開催地(英) Univ. of Tsukuba, Tokyo 
テーマ(和) 一般 
テーマ(英) General 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 KBSE 
会議コード 2010-01-KBSE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 大脳皮質活性パターン比較分析から見たソフトウェア分析環境の特性分析 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) A Characteristic Analysis for Software Analysis Support Environments based on Activated Pattern of Cerebral Cortex 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 大脳皮質 / cerebral cortex  
キーワード(2)(和/英) 活性化パターン / Activated Pattern  
キーワード(3)(和/英) 光トポグラフィ / optical topography  
キーワード(4)(和/英) ソフトウェア分析 / Software Analysi  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 大木 幹雄 / Mikio Ohki /
第1著者 所属(和/英) 日本工業大学 (略称: 日本工大)
Nippon Institute of Technology (略称: NIT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第2著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2010-01-25 15:20:00 
発表時間 40分 
申込先研究会 KBSE 
資料番号  
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.392 
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会