講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-01-25 15:20
大脳皮質活性パターン比較分析から見たソフトウェア分析環境の特性分析 ○大木幹雄(日本工大) |
抄録 |
(和) |
本稿では,普及が進んでいる「大脳皮質の活性化状態を直接計測可能な光トポグラフィ装置」を用いて,分析モデリングに適した思考過程の支援環境構築を目指して行なった基礎実験の内容とその分析結果,および導き出された分析モデリングに有効と思われる頭脳作業の支援機能について紹介する.
大脳の高次脳機能については未だ究明されていない状況から,研究は大脳皮質前頭前野の活性化状態全体を一つの状態として捉え,その時間的な変化パターンのもつ特性に着目する方法をとっている.その上で基本的な単位となる幾つかの活性化遷移パターン(=基本パターン)の存在可能性やそれらのパターンの独立性,分析モデリングにおける基本パターンへの分解可能性,基本パターンとの相関性等について論じ,分析モデリングの思考過程に有効と思われる幾つかの支援機能(=判断を支援すべきルールの機能)の候補を明らかにしている. |
(英) |
Optical topography devices which can observe several activate patterns of cerebral cortex directly, are widely spreading in the medical research filed in a recent few years. Under this circumstance, the author has been researched a support environment of software modeling task from investigating brain activate patterns. This paper described several results of fundamental experiment by using the optical topography device and effective brain task supporting function resulted by considering relationship of software modeling task and unit brain task. |
キーワード |
(和) |
大脳皮質 / 活性化パターン / 光トポグラフィ / ソフトウェア分析 / / / / |
(英) |
cerebral cortex / Activated Pattern / optical topography / Software Analysi / / / / |
文献情報 |
信学技報 |
資料番号 |
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発行日 |
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ISSN |
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