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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-02-19 14:00 摂動遮断法による光ビームプロファイラ 斧田誠一・井上恵一・○会田浩二・中野正行（渡辺製作所）  R2009-53 EMD2009-120 |
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| 抄録 | （和） | 摂動遮断法によるビームプロファイラを試作評価した。光ビームに垂直な遮光板をもつ可動コイルを、正弦波重畳したランプ信号で駆動したときの同期検波出力からプロファイルを求めるものである。可動コイルの振動振幅に応じて空間分解能を小さくすることができる。実験室でプロファイラとして簡便容易に利用できるほか、光ファイバ微小変位センサとしても応用展開することができる。簡単な数学的検討と試作実験による検証結果を報告する。 |
| （英） | Optical beam profiler using perturbation interruption method has been investigated, and verified to be useful as a convenient tool in a laboratory. An optical beam to be measured is cut by a beam cutting plate fixed perpendicularly on a moving coil, which is driven by a rump signal superposed by a perturbation sinusoidal signal. The synchronously detected output with the perturbation signal gives the power density at the cross sectional point of the beam which corresponds to the rump signal level. Simple analysis and experimental verifications were given. This scheme is very useful not only for a beam profiler, but also for a servo-type seismometer. | |
| キーワード | （和） | 光ビーム / 摂動遮断法 / 可動コイル / ビームプロファイラ / / / / |
| （英） | optical beam / perturbation interruption method / moving coil / beam profiler / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 109, no. 420, EMD2009-120, pp. 19-24, 2010年2月. | |
| 資料番号 | EMD2009-120 | |
| 発行日 | 2010-02-12 (R, EMD) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | R2009-53 EMD2009-120 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD R |
| 開催期間 | 2010-02-19 - 2010-02-19 |
| 開催地（和） | パナソニック「松心会館」 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 機構デバイスの信頼性、信頼性一般(共催：継電器・コンタクトテクノロジー研究会、IEEE CPMT JAPAN） |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | EMD |
| 会議コード | 2010-02-EMD-R |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 摂動遮断法による光ビームプロファイラ |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Optical Beam Profiler using Perturbation Interruption Method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光ビーム / optical beam |
| キーワード(2)（和/英） | 摂動遮断法 / perturbation interruption method |
| キーワード(3)（和/英） | 可動コイル / moving coil |
| キーワード(4)（和/英） | ビームプロファイラ / beam profiler |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 斧田 誠一 / Seiichi Onoda / オノダ セイイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | (株)渡辺製作所 (略称： 渡辺製作所) R&D Division, Watanabe Co., Ltd (略称： Watanabe Co., Ltd) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 井上 恵一 / Keiichi Inoue / イノウエ ケイイチ |
| 第2著者 所属（和/英） | (株)渡辺製作所 (略称： 渡辺製作所) R&D Division, Watanabe Co., Ltd (略称： Watanabe Co., Ltd) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 会田 浩二 / Koji Aita / アイタ コウジ |
| 第3著者 所属（和/英） | (株)渡辺製作所 (略称： 渡辺製作所) R&D Division, Watanabe Co., Ltd (略称： Watanabe Co., Ltd) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中野 正行 / Masayuki Nakano / ナカノ マサユキ |
| 第4著者 所属（和/英） | (株)渡辺製作所 (略称： 渡辺製作所) R&D Division, Watanabe Co., Ltd (略称： Watanabe Co., Ltd) |
| 講演者 | 第3著者 |
| 発表日時 | 2010-02-19 14:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | EMD |
| 資料番号 | R2009-53, EMD2009-120 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | no.419(R), no.420(EMD) |
| ページ範囲 | pp.19-24 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2010-02-12 (R, EMD) |
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