講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-02-23 09:30
[招待講演]カーボンナノチューブ電界効果型トランジスタの電気的特性に及ぼす界面特性の影響とその制御 ○大野雄高・森山直希・北村隆光・鈴木耕介・岸本 茂・水谷 孝(名大) ED2009-205 SDM2009-202 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2009-205 SDM2009-202 |
抄録 |
(和) |
カーボンナノチューブ電界効果型トランジスタ(CNFET)の特性を制御する上で,各種界面の特性を理解し,制御することが重要である.本報告では,high-k絶縁膜を堆積した場合に導入される界面電荷の影響について,素子特性解析やC-V特性解析に基づいて述べる.さらに,界面電荷を利用したCNFETの特性制御の可能性について議論する. |
(英) |
In order to control the property of carbon nanotube field-effect transistors (CNFETs), it is important to understand properties of various interfaces in the device. In this report, the influence of interface charges introduced by a deposition of a high-k insulator layer on top of a back-gate CNFET is discussed, based on electrical characterization and C-V measurements. We propose a novel technique to control the type of conduction by utilizing interface fixed charges. |
キーワード |
(和) |
カーボンナノチューブ / FET / CMOS / ゲート絶縁膜 / 界面 / / / |
(英) |
carbon nanotube / FET / CMOS / gate insulator / interface / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 109, no. 422, ED2009-205, pp. 53-58, 2010年2月. |
資料番号 |
ED2009-205 |
発行日 |
2010-02-15 (ED, SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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