| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2010-04-22 16:00
レーザ誘起黒鉛熱源法によるPVDF膜の熱拡散率推定のための理論モデル ~ 接着剤の影響に関する数値シミュレーション ~ ○吉村政俊(金沢工大)・氏家亮子(金沢高専)・得永嘉昭(金沢工大) US2010-6 |
| 抄録 |
(和) |
本報告はレーザ誘起黒鉛熱源法によるPVDF膜の熱拡散率測定におけるPVDF膜と黒鉛基板の間のエポキシ系接着剤が熱拡散率の測定値に及ぼす影響を考慮した理論モデルを提案している。そのモデルに基づいて数値シミュレーションを行い、接着層が数μmより厚い場合、その影響が無視できないことを明らかにしている。 |
| (英) |
This paper reports analytical simulation on thermal diffusivities of PVDF film with 28, 52, 110 μm when various thicknesses of adhesive contacted closely between a PVDF film and a carbon substrate are used. The simulation result shows that influence of employment of adhesive film thicker than several micron cannot be ignore. |
| キーワード |
(和) |
LICHS法 / 高分子材料 / 熱拡散率 / 接着剤 / PVDF膜 / / / |
| (英) |
LICHS Method / Transparent Polymer Film / Thermal Diffusivity / Adhesive / PVDF Film / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 10, US2010-6, pp. 25-28, 2010年4月. |
| 資料番号 |
US2010-6 |
| 発行日 |
2010-04-15 (US) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
US2010-6 |
| 研究会情報 |
| 研究会 |
US |
| 開催期間 |
2010-04-22 - 2010-04-22 |
| 開催地(和) |
電気通信大学創立80周年記念会館リサージュ3Fホール |
| 開催地(英) |
The University of Electro-Communications |
| テーマ(和) |
非線形音響、一般 (共催:非線形音響研究会) |
| テーマ(英) |
Nonlinear Acoustics, General, etc |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
US |
| 会議コード |
2010-04-US |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
レーザ誘起黒鉛熱源法によるPVDF膜の熱拡散率推定のための理論モデル |
| サブタイトル(和) |
接着剤の影響に関する数値シミュレーション |
| タイトル(英) |
A model for estimation of thermal diffusivities of PVDF films with an adhesive by laser induced carbon heat source method |
| サブタイトル(英) |
Simulation on influence of the adhesive |
| キーワード(1)(和/英) |
LICHS法 / LICHS Method |
| キーワード(2)(和/英) |
高分子材料 / Transparent Polymer Film |
| キーワード(3)(和/英) |
熱拡散率 / Thermal Diffusivity |
| キーワード(4)(和/英) |
接着剤 / Adhesive |
| キーワード(5)(和/英) |
PVDF膜 / PVDF Film |
| キーワード(6)(和/英) |
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| キーワード(7)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
吉村 政俊 / Masatoshi Yoshimura / ヨシムラ マサトシ |
| 第1著者 所属(和/英) |
金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: KIT) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
氏家 亮子 / Ryoko Uziie / ウジイエ リョウコ |
| 第2著者 所属(和/英) |
金沢工業高等専門学校 (略称: 金沢高専)
Kanazawa Technical College (略称: KTC) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
得永 嘉昭 / Yoshiaki Tokunaga / トクナガ ヨシアキ |
| 第3著者 所属(和/英) |
金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: KIT) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2010-04-22 16:00:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
US |
| 資料番号 |
US2010-6 |
| 巻番号(vol) |
vol.110 |
| 号番号(no) |
no.10 |
| ページ範囲 |
pp.25-28 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2010-04-15 (US) |