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講演抄録/キーワード
講演名 2010-05-27 14:00
TPD/Alq3構造有機ELへの後処理が素子特性に及ぼす影響
前田 祐湯口隆彦向井直礼岩崎好孝上野智雄東京農工大OME2010-20 エレソ技報アーカイブへのリンク:OME2010-20
抄録 (和) 有機ELの電気から光への変換過程において、素子を構成する有機物の膜質が特性に大きな影響を与える。そこで我々は素子の膜質に着目し特性改善を図った。真空蒸着法で作製したTPD/Alq3構造有機ELの場合、作製過程において有機分子が分解しながら昇華することが分かった。その知見を踏まえて、蒸着の後処理による膜質の改善を目的とし、有機蒸着後の各種雰囲気による低温アニール処理および、室温でのO*(酸素ラジカル)供給処理を施した。その結果、電流値の増加と発光効率の向上が確認できた。特性の向上の原因として、ITOからのホール注入量の増加、およびAlq3の膜質改善が示唆された。 
(英) In case of vacuum evaporation method, some of the organic molecules were dissociated by heat and various kinds of the dissociated molecules were confirmed to be deposited on the substrate. Then we give postprocessing to organic EL produced by vacuum evaporation method, because the film quality of organic layer determines the luminous efficiency of organic EL in the conversion of organic EL from electricity to light. First, we give the low temperature annealing in various gas atmosphere to organic EL, then, on the basis of the results, we have attempted the O* supplying in R.T. by ECR plasma processing. As a result, the increase of current and the improvement of luminous efficiency are successfully achieved. And we refer to the O* effect to ITO and Alq3.
キーワード (和) 有機EL / Alq3 / TPD / アニール処理 / 酸素ラジカル / キャリア注入 / /  
(英) Organic EL / Alq3 / TPD / Annealing process / Oxygen radical / Carrier injection / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 59, OME2010-20, pp. 15-19, 2010年5月.
資料番号 OME2010-20 
発行日 2010-05-20 (OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OME2010-20 エレソ技報アーカイブへのリンク:OME2010-20

研究会情報
研究会 OME  
開催期間 2010-05-27 - 2010-05-27 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 有機材料・一般 
テーマ(英) Organic Materials, General 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OME 
会議コード 2010-05-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) TPD/Alq3構造有機ELへの後処理が素子特性に及ぼす影響 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) The influence that postprocessing gives to characteristics on TPD/Alq3 structure organic EL 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 有機EL / Organic EL  
キーワード(2)(和/英) Alq3 / Alq3  
キーワード(3)(和/英) TPD / TPD  
キーワード(4)(和/英) アニール処理 / Annealing process  
キーワード(5)(和/英) 酸素ラジカル / Oxygen radical  
キーワード(6)(和/英) キャリア注入 / Carrier injection  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 前田 祐 / Tasuku Maeda / マエダ タスク
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学 工学部 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture & Technology (略称: Tokyo Univ. of Agri. & Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 湯口 隆彦 / Takahiko Yuguchi / ユグチ タカヒコ
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学 工学部 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture & Technology (略称: Tokyo Univ. of Agri. & Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 向井 直礼 / Naoyuki Mukai / ムカイ ナオユキ
第3著者 所属(和/英) 東京農工大学 工学部 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture & Technology (略称: Tokyo Univ. of Agri. & Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩崎 好孝 / Yoshitaka Iwazaki / イワザキ ヨシタカ
第4著者 所属(和/英) 東京農工大学 工学部 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture & Technology (略称: Tokyo Univ. of Agri. & Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 上野 智雄 / Tomo Ueno / ウエノ トモオ
第5著者 所属(和/英) 東京農工大学 工学部 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture & Technology (略称: Tokyo Univ. of Agri. & Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2010-05-27 14:00:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 OME 
資料番号 OME2010-20 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.59 
ページ範囲 pp.15-19 
ページ数
発行日 2010-05-20 (OME) 


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