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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-06-17 13:25 フレキシブル基板上InAs超薄膜の作製と評価 ○滝田隼人・橋本紀彦・工藤昌宏・赤堀誠志・鈴木寿一（北陸先端大）  ED2010-34 |
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| 抄録 | （和） | 格子不整成長した狭ギャップ化合物半導体のエピタキシャルリフトオフ-van der Waals貼付(van der Waals bonding; VWB)に基づき, フレキシブル基板上InAs超薄膜を形成した. 順/逆VWB, および貼付後のウエットエッチングによるInAsデバイス層活性領域の薄層化を検討しつつ, 膜厚$\sim$~100~nmで$\sim$~10000~cm$^2$V$^{-1}$s$^{-1}$, 膜厚$\lesssim$~20~nmという超薄膜においても$\sim~7000~cm$^2$V$^{-1}$s$^{-1}$という極めて高い電子移動度を有する, フレキシブル基板上InAs Hallバーデバイスを実現した. この電子移動度は, フレキシブル基板上薄膜としても, InAs薄膜としても, これまでで最高の値である. |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | フレキシブル基板 / InAs / エピタキシャルリフトオフ / van der Waals貼付 / / / / |
| （英） | flexible substrates / InAs / epitaxial lift-off / van der Waals bonding / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 80, ED2010-34, pp. 5-9, 2010年6月. | |
| 資料番号 | ED2010-34 | |
| 発行日 | 2010-06-10 (ED) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2010-34 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2010-06-17 - 2010-06-18 |
| 開催地（和） | 北陸先端大 |
| 開催地（英） | JAIST |
| テーマ（和） | 半導体のプロセス・デバイス（表面，界面，信頼性），一般 |
| テーマ（英） | Process and device technology of semiconductors (surface, interface, reliability, etc.) |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2010-06-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | フレキシブル基板上InAs超薄膜の作製と評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication and characterization of InAs ultra-thin films on flexible substrates |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | フレキシブル基板 / flexible substrates |
| キーワード(2)（和/英） | InAs / InAs |
| キーワード(3)（和/英） | エピタキシャルリフトオフ / epitaxial lift-off |
| キーワード(4)（和/英） | van der Waals貼付 / van der Waals bonding |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 滝田 隼人 / Hayato Takita / タキタ ハヤト |
| 第1著者 所属（和/英） | 北陸先端科学技術大学院大学 (略称： 北陸先端大) Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称： JAIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 橋本 紀彦 / Norihiko Hashimoto / ハシモト ノリヒコ |
| 第2著者 所属（和/英） | 北陸先端科学技術大学院大学 (略称： 北陸先端大) Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称： JAIST) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 工藤 昌宏 / Masahiro Kudo / クドウ マサヒロ |
| 第3著者 所属（和/英） | 北陸先端科学技術大学院大学 (略称： 北陸先端大) Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称： JAIST) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 赤堀 誠志 / Masashi Akabori / アカボリ マサシ |
| 第4著者 所属（和/英） | 北陸先端科学技術大学院大学 (略称： 北陸先端大) Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称： JAIST) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鈴木 寿一 / Toshi-kazu Suzuki / スズキ トシカズ |
| 第5著者 所属（和/英） | 北陸先端科学技術大学院大学 (略称： 北陸先端大) Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称： JAIST) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-06-17 13:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2010-34 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.80 |
| ページ範囲 | pp.5-9 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2010-06-10 (ED) |
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