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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-06-22 11:25 金属/Si界面の偏析層によるショットキーバリアの変調：第一原理計算による化学的傾向の検討 ○小日向恭祐・丸田勇亮・中山隆史（千葉大）  SDM2010-37 |
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| 抄録 | （和） | 金属/Si界面に発生する偏析原子層の安定性とショットキーバリア変調の化学的傾向を、偏析原子種をII族からVII族までを変化させることで、第一原理計算により調べた。その結果、族が変化するとショットキーバリアは単調に変化すること、その原因はSiを終端する偏析原子の価電子数に関係すること、Siと電気陰性度が近い原子ほど偏析しやすいことを見出した。 |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | ショットキーバリア / 偏析 / シリコン / 第一原理計算 / / / / |
| （英） | Schottky-barrier / segregation / Silicon / ab initio calculation / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 90, SDM2010-37, pp. 23-26, 2010年6月. | |
| 資料番号 | SDM2010-37 | |
| 発行日 | 2010-06-15 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2010-37 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2010-06-22 - 2010-06-22 |
| 開催地（和） | 東京大学（生産研An棟） |
| 開催地（英） | An401・402 Inst. Indus. Sci., The Univ. of Tokyo |
| テーマ（和） | ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術（応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会、研究集会との合同開催） |
| テーマ（英） | Science and Technology for Dielectric Thin Films for MIS Devices |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2010-06-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 金属/Si界面の偏析層によるショットキーバリアの変調：第一原理計算による化学的傾向の検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Schottky-barrier modulation by segregation layers at metal/Si interfaces: first-principles study on chemical trend |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ショットキーバリア / Schottky-barrier |
| キーワード(2)（和/英） | 偏析 / segregation |
| キーワード(3)（和/英） | シリコン / Silicon |
| キーワード(4)（和/英） | 第一原理計算 / ab initio calculation |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小日向 恭祐 / Kyosuke Kobinata / コビナタ キョウスケ |
| 第1著者 所属（和/英） | 千葉大学 (略称： 千葉大) Chiba University (略称： Chiba Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 丸田 勇亮 / Yusuke Maruta / マルタ ユウスケ |
| 第2著者 所属（和/英） | 千葉大学 (略称： 千葉大) Chiba University (略称： Chiba Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中山 隆史 / Takashi Nakayama / ナカヤマ タカシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 千葉大学 (略称： 千葉大) Chiba University (略称： Chiba Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-06-22 11:25:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2010-37 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.90 |
| ページ範囲 | pp.23-26 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2010-06-15 (SDM) |
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