ご案内 入会して研究会活動をもっとお得に!研究会参加費・年間登録費が会員価格になります。
お知らせ 【重要】研究会参加費の支払いおよび原稿アップロード手続きの変更に関するご案内
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2010-07-23 16:00
PDP保護膜における励起、脱励起過程
末貞和真宮本真太郎梶山博司広島大EID2010-15
抄録 (和) VUV 照射や放電に対する MgO 保護膜の応答性はカソードルミネッセンス ( CL ) 測定, サーモルミネッセンス ( TL ) 測定, エキソ電子放出計測を用いて解析する. 本論文では得られた結果に基づき, 電子とホールの励起, 脱励起過程のダイナミクスを議論する. 
(英) Dynamic response of MgO protective layer to VUV irradiationand discharge is investigated by using cathode luminescence (CL) spectroscopy, thermolimunescence (TL) spectroscopy and exoelectronanalysis. The dynamics of excitation and de-excitation processes of electron and hole traps are discussed.
キーワード (和) プラズマディスプレイパネル / PDP / 保護膜 / MgO / エキソ電子 / 二次電子 / /  
(英) Plasma Display Panel / PDP / Protective Layer / MgO / Exo-Electron / Secondary Electron / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 146, EID2010-15, pp. 17-20, 2010年7月.
資料番号 EID2010-15 
発行日 2010-07-16 (EID) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EID2010-15

研究会情報
研究会 ITE-IDY EID  
開催期間 2010-07-23 - 2010-07-23 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) ディスプレイ一般 
テーマ(英) Information Display 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EID 
会議コード 2010-07-IDY-EID 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) PDP保護膜における励起、脱励起過程 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Excitation and De-excitaion process in PDP protective layer 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) プラズマディスプレイパネル / Plasma Display Panel  
キーワード(2)(和/英) PDP / PDP  
キーワード(3)(和/英) 保護膜 / Protective Layer  
キーワード(4)(和/英) MgO / MgO  
キーワード(5)(和/英) エキソ電子 / Exo-Electron  
キーワード(6)(和/英) 二次電子 / Secondary Electron  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 末貞 和真 / Kazuma Suesada / スエサダ カズマ
第1著者 所属(和/英) 広島大学 (略称: 広島大)
Hiroshima University (略称: Hiroshima Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮本 真太郎 / Shintaro Miyamoto / ミヤモト シンタロー
第2著者 所属(和/英) 広島大学 (略称: 広島大)
Hiroshima University (略称: Hiroshima Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 梶山 博司 / Hiroshi Kajiyama / カジヤマ ヒロシ
第3著者 所属(和/英) 広島大学 (略称: 広島大)
Hiroshima University (略称: Hiroshima Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第21著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第22著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第23著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第24著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第25著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第26著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第27著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第28著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第29著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第30著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第31著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第32著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第33著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第34著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第35著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第36著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2010-07-23 16:00:00 
発表時間 30分 
申込先研究会 EID 
資料番号 EID2010-15 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.146 
ページ範囲 pp.17-20 
ページ数
発行日 2010-07-16 (EID) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会