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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-08-26 17:15 紫外線レーザ直接描画による感光性ポリマー光導波路の損失特性 ○隠岐正義・藤澤 篤（千歳科技大）・須田俊央（フォトニックサイエンステクノロジ）・小林壮一（千歳科技大）  EMD2010-40 CPM2010-56 OPE2010-65 LQE2010-38 |
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| 抄録 | （和） | 本報告ではナノハイブリッドシリコーンを用いた光配線板用ポリマーマルチモード光導波路の作製及びその評価について述べている。作製にはフォトマスク法とレーザ直接描画法を採用し，各々の直線光導波路を850 nm の各種光源を用いて評価した。また材料の透過スペクトルを測定し，直線光導波路との比較を行った。レーザ直接描画法を用いて光配線板用の交差光導波路を作製し，損失特性，クロストークについて検討した。 |
| （英） | In this report the fabrications and measurements of the polymer multimode optical waveguides with the hybrid silicone are discussed. Photo-mask and laser direct drawing methods are adopted for the fabrication and straight optical waveguide characteristics by the both methods are measured. The spectra of the hybrid silicone waveguide are measured with white light and compared with the data taken with various optical sources at 850 nm. Cross optical waveguides for optical back- plane are fabricated by the laser direct drawing and the propagation loss and crosstalk are evaluated with the waveguides. | |
| キーワード | （和） | ポリマー光導波路 / 光配線板 / レーザ直接描画法 / / / / / |
| （英） | Polymer optical waveguide / Optical backplane / Laser direct drawing / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 180, OPE2010-65, pp. 67-70, 2010年8月. | |
| 資料番号 | OPE2010-65 | |
| 発行日 | 2010-08-19 (EMD, CPM, OPE, LQE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EMD2010-40 CPM2010-56 OPE2010-65 LQE2010-38 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD OPE LQE CPM |
| 開催期間 | 2010-08-26 - 2010-08-27 |
| 開催地（和） | 千歳アルカディアプラザ |
| 開催地（英） | Chitose Arcadia Plaza |
| テーマ（和） | 光部品・電子デバイス実装技術、一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OPE |
| 会議コード | 2010-08-EMD-OPE-LQE-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 紫外線レーザ直接描画による感光性ポリマー光導波路の損失特性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Loss characteristics of optical sensitive polymer waveguide using UV laser drawing |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ポリマー光導波路 / Polymer optical waveguide |
| キーワード(2)（和/英） | 光配線板 / Optical backplane |
| キーワード(3)（和/英） | レーザ直接描画法 / Laser direct drawing |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 隠岐 正義 / Seigi Oki / オキ セイギ |
| 第1著者 所属（和/英） | 千歳科学技術大学大学院 (略称： 千歳科技大) Chitose Institutet of Science and Technology (略称： Chitose Inst. of Sci and Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 藤澤 篤 / Atsushi Fujisawa / フジサワ アツシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 千歳科学技術大学大学院 (略称： 千歳科技大) Chitose Institutet of Science and Technology (略称： Chitose Inst. of Sci and Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 須田 俊央 / Toshihiro Suda / スダ トシヒロ |
| 第3著者 所属（和/英） | フォトニックサイエンステクノロジ (略称： フォトニックサイエンステクノロジ) Photonic Science Technology (略称： Photonic Sci Tech.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小林 壮一 / Soichi Kobayashi / コバヤシ ソウイチ |
| 第4著者 所属（和/英） | 千歳科学技術大学大学院 (略称： 千歳科技大) Chitose Institutet of Science and Technology (略称： Chitose Inst. of Sci and Tech.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-08-26 17:15:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | OPE |
| 資料番号 | EMD2010-40, CPM2010-56, OPE2010-65, LQE2010-38 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.178(EMD), no.179(CPM), no.180(OPE), no.181(LQE) |
| ページ範囲 | pp.67-70 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2010-08-19 (EMD, CPM, OPE, LQE) |
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