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講演抄録/キーワード
講演名
2010-12-17 14:50
超臨界水で酸化したSiC基板表面とその膜質評価
○
佐藤智久
(
阪大
)・
二ツ木高志
・
大江太郎
(
オルガノ
)・
小松直佳
・
木村千春
・
青木秀充
(
阪大
)
SDM2010-196
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2010-196
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 110, no. 351, SDM2010-196, pp. 63-67, 2010年12月.
資料番号
SDM2010-196
発行日
2010-12-10 (SDM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
SDM2010-196
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2010-196
研究会情報
研究会
SDM
開催期間
2010-12-17 - 2010-12-17
開催地(和)
京都大学(桂)
開催地(英)
Kyoto Univ. (Katsura)
テーマ(和)
シリコン関連材料の作製と評価
テーマ(英)
Fabrication and Characterization of Si and Si-related Materials
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2010-12-SDM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
超臨界水で酸化したSiC基板表面とその膜質評価
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Properties of the oxidized layers on SiC in supercritical water
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
佐藤 智久
/
Tomohisa Satoh
/
サトウ トモヒサ
第1著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
二ツ木 高志
/
Takashi Futatsuki
/
フタツキ タカシ
第2著者 所属(和/英)
オルガノ株式会社
(略称:
オルガノ
)
Organo Corporation
(略称:
Organo
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
大江 太郎
/
Taro Oe
/
オオエ タロウ
第3著者 所属(和/英)
オルガノ株式会社
(略称:
オルガノ
)
Organo Corporation
(略称:
Organo
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
小松 直佳
/
Naoyoshi Komatsu
/
コマツ ナオヨシ
第4著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
木村 千春
/
Chiharu Kimura
/
キムラ チハル
第5著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
青木 秀充
/
Hidemitsu Aoki
/
アオキ ヒデミツ
第6著者 所属(和/英)
大阪大学
(略称:
阪大
)
Osaka University
(略称:
Osaka Univ.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
(略称: )
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
(略称: )
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
(略称: )
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
(略称: )
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2010-12-17 14:50:00
発表時間
20分
申込先研究会
SDM
資料番号
SDM2010-196
巻番号(vol)
vol.110
号番号(no)
no.351
ページ範囲
pp.63-67
ページ数
5
発行日
2010-12-10 (SDM)
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