| 研究会情報 |
| 研究会 |
SDM |
| 開催期間 |
2010-12-17 - 2010-12-17 |
| 開催地(和) |
京都大学(桂) |
| 開催地(英) |
Kyoto Univ. (Katsura) |
| テーマ(和) |
シリコン関連材料の作製と評価 |
| テーマ(英) |
Fabrication and Characterization of Si and Si-related Materials |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
SDM |
| 会議コード |
2010-12-SDM |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
ReRAMの物性評価と基本メモリ特性の制御 |
| サブタイトル(和) |
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| タイトル(英) |
Estimation of Physical Properties and Control of Memory Performance in ReRAM |
| サブタイトル(英) |
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| キーワード(1)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
木下 健太郎 / Kentaro Kinoshita / キノシタ ケンタロウ |
| 第1著者 所属(和/英) |
鳥取大学 (略称: 鳥取大)
Tottori University (略称: Tottori Univ.) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
依田 貴稔 / Takatoshi Yoda / ヨダ タカトシ |
| 第2著者 所属(和/英) |
鳥取大学 (略称: 鳥取大)
Tottori University (略称: Tottori Univ.) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
田中 隼人 / Hayato Tanaka / タナカ ハヤト |
| 第3著者 所属(和/英) |
鳥取大学 (略称: 鳥取大)
Tottori University (略称: Tottori Univ.) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
花田 明紘 / Akihiro Hanada / ハナダ アキヒロ |
| 第4著者 所属(和/英) |
鳥取大学 (略称: 鳥取大)
Tottori University (略称: Tottori Univ.) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
岸田 悟 / Satoru Kishida / キシダ サトル |
| 第5著者 所属(和/英) |
鳥取大学 (略称: 鳥取大)
Tottori University (略称: Tottori Univ.) |
| 第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第21著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第23著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第24著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第25著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第26著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第27著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第28著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第29著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第30著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第31著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第32著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第33著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第34著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第35著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第36著者 所属(和/英) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2010-12-17 13:20:00 |
| 発表時間 |
30分 |
| 申込先研究会 |
SDM |
| 資料番号 |
SDM2010-192 |
| 巻番号(vol) |
vol.110 |
| 号番号(no) |
no.351 |
| ページ範囲 |
pp.39-44 |
| ページ数 |
6 |
| 発行日 |
2010-12-10 (SDM) |