講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-12-17 15:10
プロトンビーム描画による光導波路デバイス形成の基礎検討 ○三浦健太(群馬大)・佐藤隆博・江夏昌志・石井保行・高野勝昌・大久保 猛・加田 渉・山崎明義・横山彰人・神谷富裕(原子力機構)・上原政人・桐生弘武・佐々木友之・花泉 修(群馬大)・西川宏之(芝浦工大) OPE2010-136 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2010-136 |
抄録 |
(和) |
プロトンビーム描画(Proton Beam Writing: PBW)は,次世代の微細加工技術として注目されているが,PMMAへのプロトン照射による屈折率向上効果を利用することによって,光導波路形成への応用も可能である.我々は,これまでに,PBWを利用してPMMA直線導波路を試作し,波長1.55μmのシングルモード伝搬を確認しているが,今回我々は,導波実験からシングルモード条件の特定を試み,更にY分岐導波路の描画及び基本動作の確認を行ったので,報告する. |
(英) |
Proton beam writing (PBW) attracts recently much attention as a next-generation micro-fabrication technology. It is a direct writing technique and does not need any masks to transfer micro-patterns to sample surfaces. The refractive index of a poly(methyl methacralate) (PMMA) can be increased by proton irradiation. We have already succeeded in fabricating single-mode line waveguides for a wavelength of 1550 nm using this technique. In this study, we fabricated Y-junction polymer waveguides consisting of PMMA layers by using the PBW technique. |
キーワード |
(和) |
プロトンビーム描画 / PMMA / シングルモード導波路 / Y分岐 / 光スイッチ / / / |
(英) |
Proton Beam Writing / PMMA / Single-Mode Waveguide / Y-Junction Waveguide / Optical Switch / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 352, OPE2010-136, pp. 27-30, 2010年12月. |
資料番号 |
OPE2010-136 |
発行日 |
2010-12-10 (OPE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
OPE2010-136 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2010-136 |