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講演抄録/キーワード
講演名 2010-12-17 15:10
プロトンビーム描画による光導波路デバイス形成の基礎検討
三浦健太群馬大)・佐藤隆博江夏昌志石井保行高野勝昌大久保 猛加田 渉山崎明義横山彰人神谷富裕原子力機構)・上原政人桐生弘武佐々木友之花泉 修群馬大)・西川宏之芝浦工大OPE2010-136 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2010-136
抄録 (和) プロトンビーム描画(Proton Beam Writing: PBW)は,次世代の微細加工技術として注目されているが,PMMAへのプロトン照射による屈折率向上効果を利用することによって,光導波路形成への応用も可能である.我々は,これまでに,PBWを利用してPMMA直線導波路を試作し,波長1.55μmのシングルモード伝搬を確認しているが,今回我々は,導波実験からシングルモード条件の特定を試み,更にY分岐導波路の描画及び基本動作の確認を行ったので,報告する. 
(英) Proton beam writing (PBW) attracts recently much attention as a next-generation micro-fabrication technology. It is a direct writing technique and does not need any masks to transfer micro-patterns to sample surfaces. The refractive index of a poly(methyl methacralate) (PMMA) can be increased by proton irradiation. We have already succeeded in fabricating single-mode line waveguides for a wavelength of 1550 nm using this technique. In this study, we fabricated Y-junction polymer waveguides consisting of PMMA layers by using the PBW technique.
キーワード (和) プロトンビーム描画 / PMMA / シングルモード導波路 / Y分岐 / 光スイッチ / / /  
(英) Proton Beam Writing / PMMA / Single-Mode Waveguide / Y-Junction Waveguide / Optical Switch / / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 352, OPE2010-136, pp. 27-30, 2010年12月.
資料番号 OPE2010-136 
発行日 2010-12-10 (OPE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OPE2010-136 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2010-136

研究会情報
研究会 OPE  
開催期間 2010-12-17 - 2010-12-17 
開催地(和) 機械振興会館地下3階2号室 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS)、シリコンフォトニクス、光ファイバ、一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2010-12-OPE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) プロトンビーム描画による光導波路デバイス形成の基礎検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of PMMA waveguide devices using focused proton beam 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) プロトンビーム描画 / Proton Beam Writing  
キーワード(2)(和/英) PMMA / PMMA  
キーワード(3)(和/英) シングルモード導波路 / Single-Mode Waveguide  
キーワード(4)(和/英) Y分岐 / Y-Junction Waveguide  
キーワード(5)(和/英) 光スイッチ / Optical Switch  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 三浦 健太 / Kenta Miura / ミウラ ケンタ
第1著者 所属(和/英) 群馬大学 (略称: 群馬大)
Gunma University (略称: Gunma Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐藤 隆博 / Takahiro Satoh / サトウ タカヒロ
第2著者 所属(和/英) 日本原子力研究開発機構 (略称: 原子力機構)
Japan Atomic Energy Agency (略称: JAEA)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 江夏 昌志 / Masashi Koka / コウカ マサシ
第3著者 所属(和/英) 日本原子力研究開発機構 (略称: 原子力機構)
Japan Atomic Energy Agency (略称: JAEA)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 石井 保行 / Yasuyuki Ishii / イシイ ヤスユキ
第4著者 所属(和/英) 日本原子力研究開発機構 (略称: 原子力機構)
Japan Atomic Energy Agency (略称: JAEA)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 高野 勝昌 / Katsuyoshi Takano / タカノ カツヨシ
第5著者 所属(和/英) 日本原子力研究開発機構 (略称: 原子力機構)
Japan Atomic Energy Agency (略称: JAEA)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 大久保 猛 / Takeru Ohkubo / オオクボ タケル
第6著者 所属(和/英) 日本原子力研究開発機構 (略称: 原子力機構)
Japan Atomic Energy Agency (略称: JAEA)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 加田 渉 / Wataru Kada / カダ ワタル
第7著者 所属(和/英) 日本原子力研究開発機構 (略称: 原子力機構)
Japan Atomic Energy Agency (略称: JAEA)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 山崎 明義 / Akiyoshi Yamazaki / ヤマザキ アキヨシ
第8著者 所属(和/英) 日本原子力研究開発機構 (略称: 原子力機構)
Japan Atomic Energy Agency (略称: JAEA)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 横山 彰人 / Akihito Yokoyama / ヨコヤマ アキヒト
第9著者 所属(和/英) 日本原子力研究開発機構 (略称: 原子力機構)
Japan Atomic Energy Agency (略称: JAEA)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 神谷 富裕 / Tomihiro Kamiya / カミヤ トミヒロ
第10著者 所属(和/英) 日本原子力研究開発機構 (略称: 原子力機構)
Japan Atomic Energy Agency (略称: JAEA)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 上原 政人 / Masato Uehara / ウエハラ マサト
第11著者 所属(和/英) 群馬大学 (略称: 群馬大)
Gunma University (略称: Gunma Univ.)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) 桐生 弘武 / Hiromu Kiryu / キリュウ ヒロム
第12著者 所属(和/英) 群馬大学 (略称: 群馬大)
Gunma University (略称: Gunma Univ.)
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐々木 友之 / Tomoyuki Sasaki / ササキ トモユキ
第13著者 所属(和/英) 群馬大学 (略称: 群馬大)
Gunma University (略称: Gunma Univ.)
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) 花泉 修 / Osamu Hanaizumi / ハナイズミ オサム
第14著者 所属(和/英) 群馬大学 (略称: 群馬大)
Gunma University (略称: Gunma Univ.)
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) 西川 宏之 / Hiroyuki Nishikawa / ニシカワ ヒロユキ
第15著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Inst. Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2010-12-17 15:10:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 OPE 
資料番号 OPE2010-136 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.352 
ページ範囲 pp.27-30 
ページ数
発行日 2010-12-10 (OPE) 


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