| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-02-07 14:10 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線 ○佐藤元伸（富士通/JST/産総研）・小川修一（東北大/JST）・池永英司（高輝度光科学研究センター/JST）・高桑雄二（東北大/JST）・二瓶瑞久（富士通/JST/産総研）・横山直樹（産総研）  SDM2010-222 |
|
| 抄録 | （和） | Cuに代わる新たなLSI配線材料として、多層グラフェンを検討している。多層グラフェンはCuより低い抵抗率、高い熱伝導率、高い電流密度耐性を有することが期待される。LSI応用のためには、成長温度400℃程度、かつ厚い触媒を用いない条件下で、高品質な多層グラフェンを得る技術が必要である。光電子制御プラズマCVD法は、触媒を用いずに直接絶縁膜上に成膜できる方法として期待される。ここでは、この成膜方法によりシリコン酸化膜上に直接成膜したカーボン膜の構造、配線加工プロセスとその電気特性、電流耐性、熱的安定性について、また、低抵抗化について報告する。 |
| （英） | Carbon-based materials, such as carbon nanotubes and graphene nanoribbons, have been studied as interconnect materials because of their lower resistivity, higher thermal conductivity, and intrinsically higher current carrying capacity compared with Cu. We have proposed a photoemission-assisted plasma-enhanced CVD method as a way to fabricate multilayer graphene for interconnects. We have succeeded in growing Networked-Nanographite films and fabricating Networked-Nanographite wires on dielectric layers without any metal catalysts. In this study, we investigated the electrical properties and the reliability, such as current tolerance and thermal stability. Also, we investigated the way the resistivity decreases. | |
| キーワード | （和） | 光電子制御プラズマCVD / 多層グラフェン / グラファイト / カーボン / 配線 / エレクトロマイグレーション / 熱的安定性 / 信頼性 |
| （英） | Photoemission Plasma CVD / Multilayer graphene / Graphite / Carbon / Interconnect / Electromigration / Thermal stability / Reliability | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 408, SDM2010-222, pp. 37-42, 2011年2月. | |
| 資料番号 | SDM2010-222 | |
| 発行日 | 2011-01-31 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2010-222 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2011-02-07 - 2011-02-07 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 配線・実装技術と関連材料技術 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2011-02-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Networked-Nanographite Wire Grown by Metal-Photoemission-assisted Plasma-enhanced CVD without Catalysts |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光電子制御プラズマCVD / Photoemission Plasma CVD |
| キーワード(2)（和/英） | 多層グラフェン / Multilayer graphene |
| キーワード(3)（和/英） | グラファイト / Graphite |
| キーワード(4)（和/英） | カーボン / Carbon |
| キーワード(5)（和/英） | 配線 / Interconnect |
| キーワード(6)（和/英） | エレクトロマイグレーション / Electromigration |
| キーワード(7)（和/英） | 熱的安定性 / Thermal stability |
| キーワード(8)（和/英） | 信頼性 / Reliability |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐藤 元伸 / Motonobu Sato / サトウ モトノブ |
| 第1著者 所属（和/英） | 富士通株式会社/科学技術振興機構/産業技術総合研究所 (略称： 富士通/JST/産総研) Fujitsu Ltd./JST/AIST (略称： Fujitsu Ltd./JST/AIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小川 修一 / Shuichi Ogawa / オガワ シュウイチ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東北大学/科学技術振興機構 (略称： 東北大/JST) Tohoku University/JST (略称： Tohoku Univ./JST) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 池永 英司 / Eiji Ikenaga / イケナガ エイジ |
| 第3著者 所属（和/英） | 高輝度光科学研究センター/科学技術振興機構 (略称： 高輝度光科学研究センター/JST) JASRI/JST (略称： JASRI/JST) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高桑 雄二 / Yuji Takakuwa / タカクワ ユウジ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東北大学/科学技術振興機構 (略称： 東北大/JST) Tohoku University/JST (略称： Tohoku Univ./JST) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 二瓶 瑞久 / Mizuhisa Nihei / ニヘイ ミズヒサ |
| 第5著者 所属（和/英） | 富士通株式会社/科学技術振興機構/産業技術総合研究所 (略称： 富士通/JST/産総研) Fujitsu Ltd./JST/AIST (略称： Fujitsu Ltd./JST/AIST) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 横山 直樹 / Naoki Yokoyama / ヨコヤマ ナオキ |
| 第6著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) AIST (略称： AIST) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-02-07 14:10:00 |
| 発表時間 | 30分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2010-222 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.408 |
| ページ範囲 | pp.37-42 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2011-01-31 (SDM) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]