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講演抄録/キーワード
講演名 2011-02-18 16:40
Ni上Snめっき層のへら状成長物の要因とはんだ溶解性一考察
伊藤貞則イトケン事務所)・鈴木雅史オムロンR2010-50 EMD2010-151 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2010-151
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文献情報 信学技報, vol. 110, no. 415, R2010-50, pp. 49-52, 2011年2月.
資料番号 R2010-50 
発行日 2011-02-11 (R, EMD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 EMD R  
開催期間 2011-02-18 - 2011-02-18 
開催地(和) 静岡大学(浜松キャンパス) 
開催地(英) Shizuoka Univ. (Hamamatsu) 
テーマ(和) 機構デバイスの信頼性、信頼性一般(共催:継電器・コンタクトテクノロジ研究会,IEEE CPMT JAPAN) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 R 
会議コード 2011-02-EMD-R 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Ni上Snめっき層のへら状成長物の要因とはんだ溶解性一考察 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) A Study on Plating Element and Solderbility for Ni/Sn Lath-like Intermetallic 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊藤 貞則 / Sadanori Itou / イトウ サダノリ
第1著者 所属(和/英) イトケン事務所 (略称: イトケン事務所)
Itoken Office (略称: itoken)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 雅史 / Masafumi Suzuki /
第2著者 所属(和/英) オムロン株式会社 (略称: オムロン)
OMRON CO. (略称: omron)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-02-18 16:40:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 R 
資料番号 R2010-50, EMD2010-151 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.415(R), no.416(EMD) 
ページ範囲 pp.49-52 
ページ数
発行日 2011-02-11 (R, EMD) 


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