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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-03-09 11:05 ラインプロセスを用いた樹状突起の膜抵抗分布の統計的推定 ○北園 淳（学振/東大）・大森敏明（東大/理研）・青西 亨（東工大）・岡田真人（東大/理研）  NC2010-185 |
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| 抄録 | （和） | 近年，膜電位の観測値を元に，樹状突起上の膜抵抗の空間分布を推定する手法が提案されている．従来の多くの手法では，膜抵抗値が樹状突起上で一定であると仮定して推定している．しかしながら，実際の膜抵抗は，樹状突起上で不均一に分布しており，また，膜抵抗値が樹状突起に沿って急峻に変化する例も報告されている．そこで本研究では，任意の形の膜抵抗分布に適応可能な推定手法を提案する．提案手法では，膜電位のダイナミクスをケーブル方程式で表し，また，膜抵抗分布をラインプロセスを用いて表現する．ラインプロセスによって，膜抵抗分布が区分的に滑らかであるという制約が課される．これにより，膜抵抗分布がなだらかな変化を持つ場合や急峻な変化を持つ場合など，様々な場合において，真の膜抵抗分布を推定することが可能になる． |
| （英） | Statistical methods for estimating dendritic membrane properties, including membrane resistance as a representative example, from observed noisy signals have been proposed in the last decade. Most of these methods assume membrane properties to be uniform over a dendritic tree. However, it is known that these properties are actually non-uniformly distributed, and even change steeply along a dendrite. In this study, we propose a statistical method for estimating membrane resistance distributions from observed membrane potentials, applicable to any distribution form. Dynamics of membrane potential is expressed in the cable equation, and membrane resistance distributions are expressed in the line process model. The line process model assumes a piecewise smooth distribution. Hence, even in the case where there are steep changes, our method can accurately estimate the membrane resistance distribution. |
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| キーワード | （和） | 樹状突起 / 膜抵抗分布 / イメージング / 統計的推定 / ラインプロセス / ケーブル方程式 / / |
| （英） | dendrite / membrane resistance distribution / optical imaging / statistical estimation / line process / cable equation / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 461, NC2010-185, pp. 343-348, 2011年3月. | |
| 資料番号 | NC2010-185 | |
| 発行日 | 2011-02-28 (NC) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | NC2010-185 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | NC MBE |
| 開催期間 | 2011-03-07 - 2011-03-09 |
| 開催地（和） | 玉川大学 |
| 開催地（英） | Tamagawa University |
| テーマ（和） | 一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | NC |
| 会議コード | 2011-03-NC-MBE |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ラインプロセスを用いた樹状突起の膜抵抗分布の統計的推定 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Estimating the distribution of the dendritic membrane resistance with the line process |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 樹状突起 / dendrite |
| キーワード(2)（和/英） | 膜抵抗分布 / membrane resistance distribution |
| キーワード(3)（和/英） | イメージング / optical imaging |
| キーワード(4)（和/英） | 統計的推定 / statistical estimation |
| キーワード(5)（和/英） | ラインプロセス / line process |
| キーワード(6)（和/英） | ケーブル方程式 / cable equation |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 北園 淳 / Jun Kitazono / キタゾノ ジュン |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京大学 (略称： 学振/東大) The University of Tokyo (略称： The Univ. of Tokyo) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大森 敏明 / Toshiaki Omori / オオモリ トシアキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京大学/理化学研究所 (略称： 東大/理研) The University of Tokyo/RIKEN (略称： The Univ. of Tokyo/RIKEN) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 青西 亨 / Toru Aonishi / アオニシ トオル |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology/RIKEN (略称： Tokyo Tech/RIKEN) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岡田 真人 / Masato Okada / オカダ マサト |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京大学/理化学研究所 (略称： 東大/理研) The University of Tokyo/RIKEN (略称： The Univ. of Tokyo/RIKEN) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-03-09 11:05:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | NC |
| 資料番号 | NC2010-185 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.461 |
| ページ範囲 | pp.343-348 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2011-02-28 (NC) |
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