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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-04-15 10:15 キラル表面上に作製したポリジアセチレン膜の評価 ○金 英輝・篠 竜徳・大嶋優記・間中孝彰・岩本光正（東工大）  SDM2011-2 OME2011-2 |
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| 抄録 | （和） | ガラス上に作製したジアセチレン(DA)膜に円偏光照射を施すと、光重合過程を経てキラルなポリジアセチレン(PDA)膜が作製できる。このキラル化技術を用いても、マクロな観測では偏光の違いでその結晶構造に違いはなく、数10 μm程度の多数のドメインが膜内に確認されている。一方、メントールポリマー(pMn)を下層とした際、無偏光による重合後に高複屈折な球晶状の構造が偏光顕微鏡を用いて確認された。さらに、下層のキラリティーの有無により、上層PDA膜に異なる屈折率異方性を誘起できることがわかった。 |
| （英） | Poly(diacetylene)[PDA] film can possess chirality via circularly polarized photo-polymerization (CPPP) from the precursor diacetylene (DA) film, and its morphological change between PDA films prepared using left- and right-circularly polarized light (CPL) is not observed. In this presentation, we discuss the chirality or morphological change induced at the step of preparation of DA film. Large anisotropic refractive index was shown in the PDA film evaporated on the chiral pMn. | |
| キーワード | （和） | ポリジアセチレン / 光重合 / 偏光顕微鏡 / 屈折率異方性 / / / / |
| （英） | poly(diacetylene) / photopolymerization / polarizing microscope / anisotropic refractive index / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 5, OME2011-2, pp. 5-8, 2011年4月. | |
| 資料番号 | OME2011-2 | |
| 発行日 | 2011-04-08 (SDM, OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2011-2 OME2011-2 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME SDM |
| 開催期間 | 2011-04-15 - 2011-04-15 |
| 開催地（和） | 産総研九州センター |
| 開催地（英） | AIST Kyushu Center |
| テーマ（和） | 薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術および一般 |
| テーマ（英） | Thin Films, Functional Devices, Materials, Measurement Technology, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2011-04-OME-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | キラル表面上に作製したポリジアセチレン膜の評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Investigation of Poly(diacetylene) Film Prepared on Chiral Surface |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ポリジアセチレン / poly(diacetylene) |
| キーワード(2)（和/英） | 光重合 / photopolymerization |
| キーワード(3)（和/英） | 偏光顕微鏡 / polarizing microscope |
| キーワード(4)（和/英） | 屈折率異方性 / anisotropic refractive index |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 金 英輝 / Hideki Kohn / コン ヒデキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 篠 竜徳 / Tatsunori Shino / シノ タツノリ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大嶋 優記 / Yuki Ohshima / オオシマ ユウキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 間中 孝彰 / Takaaki Manaka / マナカ タカアキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩本 光正 / Mitsumasa Iwamoto / イワモト ミツマサ |
| 第5著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-04-15 10:15:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | SDM2011-2, OME2011-2 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.4(SDM), no.5(OME) |
| ページ範囲 | pp.5-8 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2011-04-08 (SDM, OME) |
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