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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-05-27 13:40 ベンゾフェノンSAM膜を用いたポリビニルカルバゾール膜のパターン形成 ○大塚華恵・金 性湖（東京農工大）・M.C.R. Tria（ヒューストン大）・田中邦明・R.C. Advincula・臼井博明（東京農工大）  OME2011-16 |
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| 抄録 | （和） | エレクトロニクスルミネセンス（EL）素子をはじめとする有機デバイスでは，基板・膜界面の制御と薄膜パターン形成が重要な課題である．本研究ではこの問題に対して，界面に自己組織化膜（SAM）を形成することで解決する手法を試みた．末端にベンゾフェノン (BP) を持つSAMを酸化インジウムスズ (ITO) 表面に形成し，その表面にスピンコート膜を形成した後，紫外光 (UV) を照射することにより，SAMを介して界面に安定な結合を形成することを試みた．この手法を応用し，付着強度に優れたポリビニルカルバゾール（PVK）膜を形成した．さらにUV照射部分にのみ，選択的にPVKをパターニングすることができた．さらに，界面のSAMは電荷注入の障壁とはならないことが示された． |
| （英） | The control of substrate/film interface and pattern formation are among the most important process techniques for the construction of organic electronics devices such as electroluminescence (EL) cell. This paper proposes to solve these issues by forming a SAM that has benzophenone (BP) end group. The SAM was prepared on the indium-tin oxide (ITO) surface on which a polyvinylcarbazole (PVK) thin film was deposited by spin-coating. Subsequent UV irradiation causes the BP-SAM to form stable chemical bonds between the film and the substrate, improving the film-substrate adhesion strength. Moreover, patterning of the film was made possible by selective irradiation of UV. It was confirmed that the SAM layer did not impede the charge injection at the interface. | |
| キーワード | （和） | 自己組織化膜 / SAM / ベンゾフェノン / ポリビニルカルバゾール / 表面処理 / UV照射 / / |
| （英） | self-assembled monolayer / SAM / benzophenone / polyvinylcarbazole / surface treatment / UV irradiation / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 73, OME2011-16, pp. 11-16, 2011年5月. | |
| 資料番号 | OME2011-16 | |
| 発行日 | 2011-05-20 (OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OME2011-16 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
| 開催期間 | 2011-05-27 - 2011-05-27 |
| 開催地（和） | NTT武蔵野研究開発センター |
| 開催地（英） | NTT Musashino R&D center |
| テーマ（和） | 有機材料・一般 |
| テーマ（英） | Organic materials and related aspects for organic electronics |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2011-05-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ベンゾフェノンSAM膜を用いたポリビニルカルバゾール膜のパターン形成 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Patterning of Poly(vinylcarbazole) Thin Films by Use of Benzophenone SAM |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 自己組織化膜 / self-assembled monolayer |
| キーワード(2)（和/英） | SAM / SAM |
| キーワード(3)（和/英） | ベンゾフェノン / benzophenone |
| キーワード(4)（和/英） | ポリビニルカルバゾール / polyvinylcarbazole |
| キーワード(5)（和/英） | 表面処理 / surface treatment |
| キーワード(6)（和/英） | UV照射 / UV irradiation |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大塚 華恵 / Hanae Ohtsuka / オオツカ ハナエ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 金 性湖 / Seong-Ho Kim / キム ソンホー |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | M.C.R. Tria / M.c.r. Tria / M.C.R. トリア |
| 第3著者 所属（和/英） | ヒューストン大学 (略称： ヒューストン大) University of Houston (略称： Univ. Houston) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田中 邦明 / Kuniaki Tanaka / タナカク ニアキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | R.C. Advincula / R.c. Advincula / R.C. アドビンクラ |
| 第5著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 臼井 博明 / Hiroaki Usui / ウスイ ヒロアキ |
| 第6著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-05-27 13:40:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | OME2011-16 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.73 |
| ページ範囲 | pp.11-16 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2011-05-20 (OME) |
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