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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-05-27 13:00 低分子スピンコート膜の光重合による燐光性高分子薄膜のパターン形成 宮川大地・室山雅和・田中邦明・○臼井博明（東京農工大）  OME2011-14 |
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| 抄録 | （和） | アクリルモノマー，光重合開始剤，及び発光性ドーパントの低分子混合溶液をスピンコートし，フォトマスクを介して紫外線（UV）照射を行い，有機溶媒で未重合部分を除去することによって高分子薄膜パターンを形成した．アクリルモノマーに2-(9H-Carbazol-9-yl)ethylmethacrylate，光重合開始剤に4-(Dimethylamino)benzophenone，ドーパントとしてIridium(III)Bis(2-phenylpyridinate(4-vinylphenylpyridine)) を用いた．製膜溶媒はtetrahydrofuranと1,4- dioxaneの混合溶媒が適当であり，現像溶媒としてはethanolが良好な結果を与えた．露光は製製膜後直ちに行う必要があり，60 mW/cm2以上の強度で均質な重合膜が得られ，露光時間の増大とともに現像後の膜厚も増大した．このようにして得られた薄膜パターンを発光層として利用した有機EL素子の動作確認を行った． |
| （英） | Patterned polymer thin films were prepared by spin-coating a solution of small molecules including an acryl monomer, a photoinitiator, and an emissive dopant, followed by UV irradiation through a photomask and dissolving the unirradiated parts by an organic solvent. 2-(9H-Carbazol-9-yl)ethylmethacrylate was used as the monomer and 4-(Dimethylamino) benzophenone was used as the initiator. For the dopant, Iridium(III) bis(2-phenylpyridinate(4-vinylphenylpyridine)) was employed. It was found that a mixture of tetrahydrofuran and 1,4-dioxane is convenient for the coating solvent. Ethanol gave a satisfactory result as the developing solvent. It was important to perform the UV exposure shortly after the spin-coating. UV power higher than 60 mW/cm2 was required to obtain a uniform pattern. The exposure time did not influence the pattern uniformity but controlled the film thickness after the development. The patterned film was used as an emissive layer to construct an organic light emitting diode. | |
| キーワード | （和） | 光重合 / パターン形成 / カルバゾール / スピンコート / 有機ＥＬ / / / |
| （英） | photopolymerization / patterning / carbazole / spin-coating / OLED / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 73, OME2011-14, pp. 1-6, 2011年5月. | |
| 資料番号 | OME2011-14 | |
| 発行日 | 2011-05-20 (OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OME2011-14 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
| 開催期間 | 2011-05-27 - 2011-05-27 |
| 開催地（和） | NTT武蔵野研究開発センター |
| 開催地（英） | NTT Musashino R&D center |
| テーマ（和） | 有機材料・一般 |
| テーマ（英） | Organic materials and related aspects for organic electronics |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2011-05-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 低分子スピンコート膜の光重合による燐光性高分子薄膜のパターン形成 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Patterning of Phosphorescent Polymer Layer by Spin-Coating of Photoreactive Monomer Film |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光重合 / photopolymerization |
| キーワード(2)（和/英） | パターン形成 / patterning |
| キーワード(3)（和/英） | カルバゾール / carbazole |
| キーワード(4)（和/英） | スピンコート / spin-coating |
| キーワード(5)（和/英） | 有機ＥＬ / OLED |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宮川 大地 / Daichi Miyagawa / ミヤガワ ダイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 室山 雅和 / Masakazu Muroyama / ムロヤマ マサカズ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田中 邦明 / Kuniaki Tanaka / タナカ クニアキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 臼井 博明 / Hiroaki Usui / |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 講演者 | 第4著者 |
| 発表日時 | 2011-05-27 13:00:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | OME2011-14 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.73 |
| ページ範囲 | pp.1-6 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2011-05-20 (OME) |
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