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講演抄録/キーワード
講演名 2011-11-10 10:55
[招待講演]SISPAD 2011レビュー
林 洋一ラピスセミコンダクタSDM2011-116
抄録 (和) 2011 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD2011)が、2011年9月8日~10日まで、大阪万博記念公園のホテル阪急エキスポパークで開催された。本稿では、ここ数年のSISPADの傾向について概説すると共に、当会議で報告された論文の中から、代表的なものを幾つかレビューする。 
(英) 2011 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD2011) was held in Hotel Hankyu expo park of Osaka on September 8-10, 2011. In this report, I explain outline including a tendency of SISPAD of these past several years, and then review some representative papers.
キーワード (和) SISPAD2011 / レビュー / / / / / /  
(英) SISPAD2011 / review / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 281, SDM2011-116, pp. 7-10, 2011年11月.
資料番号 SDM2011-116 
発行日 2011-11-03 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2011-116

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2011-11-10 - 2011-11-11 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
テーマ(英) Process, Device, Circuit Simulations, etc 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2011-11-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) SISPAD 2011レビュー 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) SISPAD 2011 Review 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) SISPAD2011 / SISPAD2011  
キーワード(2)(和/英) レビュー / review  
キーワード(3)(和/英) /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 林 洋一 / Hirokazu Hayashi / ハヤシ ヒロカズ
第1著者 所属(和/英) ラピスセミコンダクタ (略称: ラピスセミコンダクタ)
Lapis Semiconductor (略称: Lapis Semi.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-11-10 10:55:00 
発表時間 50分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2011-116 
巻番号(vol) vol.111 
号番号(no) no.281 
ページ範囲 pp.7-10 
ページ数
発行日 2011-11-03 (SDM) 


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