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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-11-30 10:55 VLSIの製造バラつきと経年劣化を考慮したアダプティブフィールドテストにおけるパス選択法に関する考察 ○柏崎智史・細川利典（日大）・吉村正義（九大）  VLD2011-85 DC2011-61 |
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| 抄録 | （和） | 近年，製造テストで正常VLSIと判定されるが，出荷後の使用環境で経年劣化の結果，出荷時の遅延時間に対して微小な遅延が発生し，不良VLSIとなるものが存在することが問題となっている．経年劣化のために発生した欠陥を検出するために，フィールドテストが提案されている．しかしながら，フィールドテストではテスト実行時間の観点から微小遅延故障を網羅的に検出するためのテストを実行することは困難である．それゆえ，効果的に微小遅延故障を検出するためには，フィールドテストで対象とするテスト対象パスの選択が重要である．従来のテスト対象パス選択法は，トランジスタ毎の経年劣化と設計段階でのパスの遅延時間を考慮してフィールドテスト用のパスを選択するというものであった．それゆえ，設計段階でのクリティカルパスがフィールドテストで選択される傾向にある．しかしながら，この手法はVLSIを製造した際に生じる製造バラつきを考慮していない．本論文では，アダプティブフィールドテストにおいて，製造バラつきと経年劣化を考慮したテスト対象パス選択法を提案する．ISCAS'89ベンチマーク回路での実験結果で，設計時にはクリティカルパスでなかったパスが，製造バラつきと経年劣化の結果クリティカルパスとなるケースが存在することと，テスト対象パスに対しテスト生成を行いその遷移故障検出率を示す． |
| （英） | It has the problem that good VLSIs in production testing become defective VLSIs in the fields because small delays on signal lines are caused by aging deterioration. Some field test methods have been proposed to detect defects caused by aged deterioration. However, it is difficult to detect small delay faults comprehensively in field testing from the view point of test application time. Therefore, it is important to select target paths to detect small delay faults effectively in field testing. On field testing, target path selection methods based on path delay at design phase and aging degradation have been proposed. They tend to select critical paths at design phase. However, these methods do not consider process variation caused when VLSIs are manufactured. In this paper, we propose a target path selection method based on process variation and aging degradation on an adaptive field testing. Experimental results for ISCAS’89 benchmark circuits show that there exist such cases that paths which are not critical at design phase become critical after manufacturing due to process variation and aging degradation and run test generation for target paths and then the determine transition fault coverage. | |
| キーワード | （和） | 製造ばらつき / フィールドテスト / パス選択 / 経年劣化 / / / / |
| （英） | process variation / field test / path selection / aging degradation / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 325, DC2011-61, pp. 191-195, 2011年11月. | |
| 資料番号 | DC2011-61 | |
| 発行日 | 2011-11-21 (VLD, DC) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2011-85 DC2011-61 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD DC IPSJ-SLDM CPSY RECONF ICD CPM |
| 開催期間 | 2011-11-28 - 2011-11-30 |
| 開催地（和） | ニューウェルシティ宮崎 |
| 開催地（英） | NewWelCity Miyazaki |
| テーマ（和） | デザインガイア2011 -VLSI設計の新しい大地― |
| テーマ（英） | Design Gaia 2010 -New Field of VLSI Design- |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | DC |
| 会議コード | 2011-11-VLD-DC-SLDM-CPSY-RECONF-ICD-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | VLSIの製造バラつきと経年劣化を考慮したアダプティブフィールドテストにおけるパス選択法に関する考察 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A study on path selection results of an adaptive field test with process variation and aging degradation for VLSI |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 製造ばらつき / process variation |
| キーワード(2)（和/英） | フィールドテスト / field test |
| キーワード(3)（和/英） | パス選択 / path selection |
| キーワード(4)（和/英） | 経年劣化 / aging degradation |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 柏崎 智史 / Satoshi Kashiwazaki / カシワザキ サトシ |
| 第1著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 細川 利典 / Toshinori Hosokawa / ホソカワ トシノリ |
| 第2著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 吉村 正義 / Masayoshi Yoshimura / ヨシムラ マサヨシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 九州大学 (略称： 九大) Kyushuu University (略称： Kyu Univ) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-11-30 10:55:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | DC |
| 資料番号 | VLD2011-85, DC2011-61 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.324(VLD), no.325(DC) |
| ページ範囲 | pp.191-195 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2011-11-21 (VLD, DC) |
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