講演抄録/キーワード |
講演名 |
2012-01-12 13:40
AlGaNチャネルHEMTの高温特性評価 ○畑野舞子・山崎 潤(福井大)・矢船憲成(シャープ)・徳田博邦(福井大)・山本喜之・橋本 信・秋田勝史(住友電工)・葛原正明(福井大) ED2011-135 MW2011-158 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2011-135 MW2011-158 |
抄録 |
(和) |
自立AlN基板上に作製したAlGaNチャネルHEMTの室温から300度までの電子輸送特性の温度依存性を評価した。温度上昇に伴う飽和ドレイン電流の低下率は、チャネル層のAlGaNのAl組成が高くなるほど小さくなった。Al0.26Ga0.74NチャネルHEMTの温度依存性は、主に実効チャネル電子速度に支配されていることが明らかとなった。これらの結果は、高温下で動作するデバイスとして、AlN基板上AlGaNチャネルHEMTが有望であることを示している。 |
(英) |
We fabricated AlGaN-channel HEMT on a free-standing AlN substrate and estimated their electron transport properties at temperatures between 25 and 300 degree C. Decrease ratio of saturation drain current was small with increasing an Al composition of AlGaN channel. Delay time analyses suggested that the temperature dependence of the Al0.26Ga0.74N -channel HEMT was primarily dominated by the effective electron velocity in the channel. These results indicate that AlGaN-channel HEMTs grown on an AlN substrate is promising for high-temperature electronics applications at more than 300 ºC. |
キーワード |
(和) |
AlGaNチャネル / HEMT / 高温動作 / 高周波特性 / 実効電子速度 / / / |
(英) |
AlGaN channel / HEMT / high-temperature operation / RF characteristics / effective electron velocity / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 373, ED2011-135, pp. 91-95, 2012年1月. |
資料番号 |
ED2011-135 |
発行日 |
2012-01-04 (ED, MW) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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