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講演抄録/キーワード
講演名 2012-01-26 16:05
プリンタ用780nm帯40ch光書き込みVCSELアレイ
軸谷直人原 敬伊藤彰浩庄子浩義上西盛聖本村 寛原坂和宏菅原 悟佐藤俊一リコーPN2011-49 OPE2011-165 LQE2011-151 EST2011-99 MWP2011-67 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2011-165 LQE2011-151 EST2011-99 MWP2011-67
抄録 (和) プリンタの書き込み光源として開発した780nm帯 40チャンネル面発光型半導体レーザ(VCSEL: Vertical Cavity Surface Emitting Laser) アレイについて報告する.本VCSELアレイでは,多層膜反射鏡の一部に設けた放熱構造の採用により発熱による特性劣化を大幅に改善し,高出力での安定動作を実現した.また,信頼性に有利なAlフリー圧縮歪GaInPAs量子井戸活性層,傾斜基板,および異方性形状高次モードフィルターの採用により,酸化狭窄面積が50μm2の素子において,3mW以上のシングルモード出力と偏光の単一方向制御とを同時に達成し,長期信頼性に優れた,高密度で高速書き込みが可能なプリンタの書き込み光源を実現した. 
(英) We report 780 nm range 40 channels vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) arrays which were developed for laser printers. We improved many laser characteristics such as maximum power, thermal cross talk and long-term reliability by reducing thermal resistance of a lower multi layer reflector. We achieved both high-power single-mode operation of over 3 mW and stable polarization characteristics up to oxide aperture area of 50 μm2 using compressive-strained Al-free GaInPAs active layer, misoriented substrate, and anisotropic higher transverse mode filter
キーワード (和) VCSEL / アレイ / 780nm / 熱抵抗 / シングルモード / 偏光 / 異方性 / フィルター  
(英) VCSEL / array / 780nm / thermal resistance / single mode / polarization / anisotropic / filter  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 414, LQE2011-151, pp. 103-108, 2012年1月.
資料番号 LQE2011-151 
発行日 2012-01-19 (PN, OPE, LQE, EST, MWP) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 EMT PN LQE OPE MWP EST IEE-EMT  
開催期間 2012-01-26 - 2012-01-27 
開催地(和) 大阪大学コンベンションセンター 
開催地(英) Osaka Univ. Convention Center 
テーマ(和) フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶,ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般 
テーマ(英) Photonic integrated circuits and devices, swtiching, PLC, fiber devices, waveguide analysis, and others 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 LQE 
会議コード 2012-01-EMT-PN-LQE-OPE-MWP-EST-EMT 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) プリンタ用780nm帯40ch光書き込みVCSELアレイ 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) 780nm range 40 channels VCSEL array for printers 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) VCSEL / VCSEL  
キーワード(2)(和/英) アレイ / array  
キーワード(3)(和/英) 780nm / 780nm  
キーワード(4)(和/英) 熱抵抗 / thermal resistance  
キーワード(5)(和/英) シングルモード / single mode  
キーワード(6)(和/英) 偏光 / polarization  
キーワード(7)(和/英) 異方性 / anisotropic  
キーワード(8)(和/英) フィルター / filter  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 軸谷 直人 / Naoto Jikutani / ジクタニ ナオト
第1著者 所属(和/英) (株)リコー 研究開発本部 東北研究所 (略称: リコー)
Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. (略称: RICOH)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 原 敬 / Kei Hara / ハラ ケイ
第2著者 所属(和/英) (株)リコー 研究開発本部 東北研究所 (略称: リコー)
Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. (略称: RICOH)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊藤 彰浩 / Akihiro Itoh / イトウ アキヒロ
第3著者 所属(和/英) (株)リコー 研究開発本部 東北研究所 (略称: リコー)
Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. (略称: RICOH)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 庄子 浩義 / Hiroyoshi Shouji / ショウジ ヒロヨシ
第4著者 所属(和/英) (株)リコー 研究開発本部 東北研究所 (略称: リコー)
Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. (略称: RICOH)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 上西 盛聖 / Morimasa Kaminishi / カミニシ モリマサ
第5著者 所属(和/英) (株)リコー 研究開発本部 東北研究所 (略称: リコー)
Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. (略称: RICOH)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 本村 寛 / Hiroshi Motomura / モトムラ ヒロシ
第6著者 所属(和/英) (株)リコー 研究開発本部 東北研究所 (略称: リコー)
Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. (略称: RICOH)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 原坂 和宏 / Kazuhiro Harasaka / ハラサカ カズヒロ
第7著者 所属(和/英) (株)リコー 研究開発本部 東北研究所 (略称: リコー)
Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. (略称: RICOH)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 菅原 悟 / Satoru Sugawara / スガワラ サトル
第8著者 所属(和/英) (株)リコー 研究開発本部 東北研究所 (略称: リコー)
Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. (略称: RICOH)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐藤 俊一 / Shunichi Sato / サトウ シュンイチ
第9著者 所属(和/英) (株)リコー 研究開発本部 東北研究所 (略称: リコー)
Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. (略称: RICOH)
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講演者 第1著者 
発表日時 2012-01-26 16:05:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 LQE 
資料番号 PN2011-49, OPE2011-165, LQE2011-151, EST2011-99, MWP2011-67 
巻番号(vol) vol.111 
号番号(no) no.412(PN), no.413(OPE), no.414(LQE), no.415(EST), no.416(MWP) 
ページ範囲 pp.103-108 
ページ数
発行日 2012-01-19 (PN, OPE, LQE, EST, MWP) 


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