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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-01-27 16:00 キャビテーション気泡界面領域のOHラジカル濃度 ○畑中信一（電通大）  US2011-103 |
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| 抄録 | （和） | ヨウ化カリウム水溶液への超音波照射による三ヨウ化物イオンと過酸化水素の生成速度より，キャビテーション気泡とバルク液体の界面領域の局所的OHラジカル濃度を求めた．周波数650 kHzにおいて，界面濃度は２ mmol/Lで，バルク液体濃度より2オーダー高かった． |
| （英） | A local concentration of the OH radicals in the interfacial regions between the cavitation bubbles and the liquid is derived from the production rate of hydrogen peroxide and iodine in aqueous potassium iodide solutions. The products of hydrogen peroxide and iodine result from the competitive reactions of the OH・+ OH・and the OH・+ I－, respectively, because the total yield of the products is independent of solute concentration. At 650 kHz ultrasonic irradiation, 2 mM was obtained for the concentration of the OH radicals in the interfacial region, which was 2 orders of magnitude higher than the concentration in the bulk liquid. | |
| キーワード | （和） | キャビテーション / 界面領域 / OHラジカル / ヨウ化物イオン / 過酸化水素 / 競争反応 / / |
| （英） | Cavitation / Interfacial Region / Hydroxyl Radical / Iodide Ion / Hydrogen Peroxide / Competitive Reaction / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 401, US2011-103, pp. 101-102, 2012年1月. | |
| 資料番号 | US2011-103 | |
| 発行日 | 2012-01-19 (US) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | US2011-103 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EA US |
| 開催期間 | 2012-01-26 - 2012-01-27 |
| 開催地（和） | 関西大学 |
| 開催地（英） | Kansai Univ. |
| テーマ（和） | ＜音響・超音波サブソサイエティ合同研究会＞応用(電気)音響，超音波，一般 |
| テーマ（英） | [Joint Meeting on Acoustics and Ultrasonics Subsociety] Engineering/Electro Acoustics, Ultrasonic and Underwater Acoustics，and Related Topics |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | US |
| 会議コード | 2012-01-EA-US |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | キャビテーション気泡界面領域のOHラジカル濃度 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Concentration of hydroxyl radicals in the interfacial regions of cavitation bubbles |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | キャビテーション / Cavitation |
| キーワード(2)（和/英） | 界面領域 / Interfacial Region |
| キーワード(3)（和/英） | OHラジカル / Hydroxyl Radical |
| キーワード(4)（和/英） | ヨウ化物イオン / Iodide Ion |
| キーワード(5)（和/英） | 過酸化水素 / Hydrogen Peroxide |
| キーワード(6)（和/英） | 競争反応 / Competitive Reaction |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 畑中 信一 / Shin-ichi Hatanaka / ハタナカ シンイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 電気通信大学 (略称： 電通大) The University of Electro-Communications (略称： Univ. of Electro-Comm.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-01-27 16:00:00 |
| 発表時間 | 30分 |
| 申込先研究会 | US |
| 資料番号 | US2011-103 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.401 |
| ページ範囲 | pp.101-102 |
| ページ数 | 2 |
| 発行日 | 2012-01-19 (US) |
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