| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-03-01 10:30 紙の可視光人工物メトリクスの耐クローン性評価 ○近藤佑樹・武内康博・四方順司・松本 勉（横浜国大）  IT2011-46 ISEC2011-73 WBS2011-47 |
|
| 抄録 | （和） | 紙の可視光人工物メトリック・システムは，可視光を紙に照射した際の反射光パターンを紙の固有の特徴とした認証システムである．このパターンは紙の繊維の絡み方や凝集部分等の内部構造に依存するため，１枚１枚の紙で異なる．この認証システムが，特定の紙に対し，OHPシートや再生紙を素材として印刷的手法により作製したクローンをうまく拒否することが高い確率で期待できるとき，耐クローン性が高いという．耐クローン性は，個別性，読取安定性，耐久性と共に人工物メトリクスにおける重要な要件である．本稿では，特定の紙に対してそのクローンを提示し，それが当該紙として受理される割合を多数の紙により実験的に求めた値CMR（Clone Match Rate）を測定し，当該システムの耐クローン性の評価を行った． |
| （英） | Visible-light paper artifact-metric system is a type of authentication system using visible light patterns of paper as its inherent feature. This feature is a light pattern with tone that is formed from an internal structure, such as an intertwinement, a cohesion part of paper fiber, when it irradiates the visible light to paper. Clone Resistance is one of the important requirements for artifact-metric system as well as Individuality, Stability, and Durability. For a visible light paper artifact-metric system the Clone Resistance against a particular clone such as printed paper or transparent plastic sheet can be evaluated by measuring its Clone Match Rate, which is the probability that the system accept the clone. We conducted several experiments to evaluate Clone Match Rate of several visible-light paper artifact-metric systems. | |
| キーワード | （和） | セキュリティ / 人工物メトリクス / 紙 / 相関係数 / 耐クローン性 / 可視光反射型スキャナ / / |
| （英） | Security / Artifact-Metrics / Paper / Correlation Coefficient / Clone Resistance / Visible-Light Scanner / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 455, ISEC2011-73, pp. 1-8, 2012年3月. | |
| 資料番号 | ISEC2011-73 | |
| 発行日 | 2012-02-23 (IT, ISEC, WBS) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | IT2011-46 ISEC2011-73 WBS2011-47 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | IT ISEC WBS |
| 開催期間 | 2012-03-01 - 2012-03-02 |
| 開催地（和） | 慶応義塾大学 日吉キャンパス 来往舎 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 一般：情報通信基礎サブソサイエティとの合同研究会 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ISEC |
| 会議コード | 2012-03-IT-ISEC-WBS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 紙の可視光人工物メトリクスの耐クローン性評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A Clone Resistance Evaluation of Visible-Light Paper Artifact-Metrics |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | セキュリティ / Security |
| キーワード(2)（和/英） | 人工物メトリクス / Artifact-Metrics |
| キーワード(3)（和/英） | 紙 / Paper |
| キーワード(4)（和/英） | 相関係数 / Correlation Coefficient |
| キーワード(5)（和/英） | 耐クローン性 / Clone Resistance |
| キーワード(6)（和/英） | 可視光反射型スキャナ / Visible-Light Scanner |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 近藤 佑樹 / Yuki Kondo / コンドウ ユウキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： Yokohama National Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 武内 康博 / Yasuhiro Takeuchi / タケウチ ヤスヒロ |
| 第2著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： Yokohama National Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 四方 順司 / Junji Shikata / シカタ ジュンジ |
| 第3著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： Yokohama National Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松本 勉 / Tsutomu Matsumoto / マツモト ツトム |
| 第4著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： Yokohama National Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-03-01 10:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ISEC |
| 資料番号 | IT2011-46, ISEC2011-73, WBS2011-47 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.454(IT), no.455(ISEC), no.456(WBS) |
| ページ範囲 | pp.1-8 |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | 2012-02-23 (IT, ISEC, WBS) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]