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講演抄録/キーワード
講演名 2012-05-24 14:30
ナノミスト堆積(NMD)法を用いた有機薄膜の成膜とOLEDへの応用
菊池昭彦入江崇之上智大OME2012-24
抄録 (和) エレクトロスプレー法の一種であり、ノズル近傍に引出電極を装荷したナノミスト堆積(NMD)法を用いて、緑色発光高分子であるF8BT薄膜の成膜特性を評価した。電極-基板間距離を広げることにより塗布領域は線形に拡大し、直径47mm程度の領域に成膜が可能であった。成膜条件の制御により表面粗さ(Ra)4.9nm程度の平坦な成膜が得られた。また、AZO/F8BT/MoO3無機有機複合型LEDのF8BT層成膜にNMDを用い、スピンコート法と遜色無い良好な電気特性と発光特性を得た。さらに、TPD/F8BT/BCP:低分子/高分子/低分子積層構造OLEDをNMD法で作製し、明瞭な整流特性と電流注入発光を観測し、ESD法による有機多層構造の形成が可能であることを実証した。 
(英) Thin film deposition characteristics of a Nano-Mist Deposition (NMD) technique; a kind of electrospray deposition technique using green emission polymer of F8BT. The deposition area was enlarged to 47mm in diameter by increasing a distance between nozzle and substrate. By controlling some deposition conditions, the surface roughness (Ra) of the F8BT layer was reduced to 4.9nm. The NMD was applied to form the F8BT layer of AZO/F8BT/MoO3 Inorganic-organic hybrid LED. The obtained device characteristics were comparable to that of reference device whose active layer was formed by spin-coating method. Furthermore, we demonstrated a fabrication of multiple-stacked organic layer (TPD/F8BT/BCP: low-molecular/ high-molecular/low-molecular) OLED by NMD and obtained a clear rectification characteristics and current injection emission.
キーワード (和) ナノミスト堆積法 / 静電スプレー法 / 静電塗布法 / 成膜技術 / 有機EL / / /  
(英) Nanomist deposition / Electrospray deposition / Electrostatic atomization / Thin film deposition technique / OLED / / /  
文献情報 信学技報, vol. 112, no. 57, OME2012-24, pp. 25-29, 2012年5月.
資料番号 OME2012-24 
発行日 2012-05-17 (OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OME2012-24

研究会情報
研究会 OME  
開催期間 2012-05-24 - 2012-05-24 
開催地(和) NTT武蔵野研究開発センター 
開催地(英) NTT Musashino Research and Development Center 
テーマ(和) 有機材料、作製・評価技術、一般 
テーマ(英) Organic Materials; Preparation, Characterization and Related Topics 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OME 
会議コード 2012-05-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ナノミスト堆積(NMD)法を用いた有機薄膜の成膜とOLEDへの応用 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Nano Mist Deposition (NMD) technique for fabrication of polymer layer and OLED 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ナノミスト堆積法 / Nanomist deposition  
キーワード(2)(和/英) 静電スプレー法 / Electrospray deposition  
キーワード(3)(和/英) 静電塗布法 / Electrostatic atomization  
キーワード(4)(和/英) 成膜技術 / Thin film deposition technique  
キーワード(5)(和/英) 有機EL / OLED  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 菊池 昭彦 / Akihiko Kikuchi / キクチ アキヒコ
第1著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 入江 崇之 / Takayuki Irie /
第2著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2012-05-24 14:30:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 OME 
資料番号 OME2012-24 
巻番号(vol) vol.112 
号番号(no) no.57 
ページ範囲 pp.25-29 
ページ数
発行日 2012-05-17 (OME) 


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