| 研究会情報 |
| 研究会 |
ICD SDM |
| 開催期間 |
2012-08-02 - 2012-08-03 |
| 開催地(和) |
札幌市男女共同参画センター |
| 開催地(英) |
Sapporo Center for Gender Equality, Sapporo, Hokkaido |
| テーマ(和) |
低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用 |
| テーマ(英) |
Low-power, low-voltage device and circuit technology |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
SDM |
| 会議コード |
2012-08-ICD-SDM |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
10nm径トライゲートナノワイヤMOSFETにおける高電界輸送特性向上と薄BOXによる閾値調整 |
| サブタイトル(和) |
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| タイトル(英) |
10nm-Diameter Tri-Gate Silicon Nanowire MOSFETs with Enhanced High-Field Transport and Vth Tunability through Thin BOX |
| サブタイトル(英) |
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| キーワード(1)(和/英) |
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| キーワード(2)(和/英) |
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| キーワード(3)(和/英) |
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| キーワード(4)(和/英) |
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| キーワード(7)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
太田 健介 / Kensuke Ota / オオタ ケンスケ |
| 第1著者 所属(和/英) |
株式会社 東芝 (略称: 東芝)
Toshiba (略称: Toshiba) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
齋藤 真澄 / Masumi Saitoh / サイトウ マスミ |
| 第2著者 所属(和/英) |
株式会社 東芝 (略称: 東芝)
Toshiba (略称: Toshiba) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
田中 千加 / Chika Tanaka / タナカ チカ |
| 第3著者 所属(和/英) |
株式会社 東芝 (略称: 東芝)
Toshiba (略称: Toshiba) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
内田 健 / Ken Uchida / ウチダ ケン |
| 第4著者 所属(和/英) |
東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: TIT) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
沼田 敏典 / Toshinori Numata / ヌマタ トシノリ |
| 第5著者 所属(和/英) |
株式会社 東芝 (略称: 東芝)
Toshiba (略称: Toshiba) |
| 第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第26著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第27著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第28著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第29著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第30著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第32著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第33著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第34著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第35著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第36著者 所属(和/英) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2012-08-02 13:50:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
SDM |
| 資料番号 |
SDM2012-70, ICD2012-38 |
| 巻番号(vol) |
vol.112 |
| 号番号(no) |
no.169(SDM), no.170(ICD) |
| ページ範囲 |
pp.37-42 |
| ページ数 |
6 |
| 発行日 |
2012-07-26 (SDM, ICD) |