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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-10-19 08:55 ［招待講演］自己組織化ポリマーを用いた5Tdot/inch2ビットパターンドメディアの作製 ○鎌田芳幸・前田知幸・稗田泰之・山本亮介・木原尚子・喜々津 哲（東芝）  MR2012-25 |
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| 抄録 | （和） | HDDの大容量化を実現するため、自己組織化リソグラフィー技術を用いたビットパターンドメディアの作製を検討している。5 Tdot/inch2の密度では、ビットの大きさが8 nm以下という超微細ビットをディスク上に作製する事になる。記録ビットがあまりにも小さいため、記録が室温で揺らいで消えてしまう現象を打破できる高磁気異方性エネルギー材料L10 FePt磁性膜を用い、12 nmピッチの自己組織化材料で形成したマスクでエッチングした5 Tb/in2密度のFePt BPMを作製した。作製したFePt BPMは、保磁力6 kOeと小さく、ドット反転磁界分散は21 %と大きかった。エッチングダメージでKu劣化部位が生じるのが原因だと推測される。 |
| （英） | FePt bit patterned media (BPM) was fabricated with a self-assembled polymer mask with 12 nm pitch (equivalent to 5 Tdot/inch2). A 3.2 nm FePt film with high c axis crystal orientation was prepared for the magnetic recording layer. A solvent vapor annealing was applied for uniform directed self-assembling of PS (Polystyrene)-PDMS (polydimethylsiloxane) diblock copolymer. Pattern transfer from a polymer mask to FePt layer was successfully achieved by employing a C hard mask. In spite of excellent magnetic characteristics of FePt layer, the fabricated FePt BPM showed small coercivity (Hc) of 6 kOe and large switching field distribution (SFD) of 21%. These results are due to the etching damage of FePt dots. Disordering of FePt L10 phase by the etching damage reduced magnetic anisotropy energy (Ku). | |
| キーワード | （和） | ビットパターンドメディア / 自己組織化 / 磁気記録装置 / / / / / |
| （英） | bit patterned media / FePt / diblock copolymer / directed self-assembly / switching field distribution / HDD / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, 2012年10月. | |
| 資料番号 | ||
| 発行日 | 2012-10-11 (MR) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MR2012-25 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS ITE-MMS |
| 開催期間 | 2012-10-18 - 2012-10-19 |
| 開催地（和） | 秋田県産業技術センター(AIT) 高度技術研究館 |
| 開催地（英） | AIT |
| テーマ（和） | ヘッド・スピントロニクス，一般 |
| テーマ（英） | Recording head, Spintronics, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MRIS |
| 会議コード | 2012-10-MR-MMS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 自己組織化ポリマーを用いた5Tdot/inch2ビットパターンドメディアの作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | 5Tb/in2 Bit Patterned Media Fabricated by a Directed Self-Assembling Polymer Mask |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ビットパターンドメディア / bit patterned media |
| キーワード(2)（和/英） | 自己組織化 / FePt |
| キーワード(3)（和/英） | 磁気記録装置 / diblock copolymer |
| キーワード(4)（和/英） | / directed self-assembly |
| キーワード(5)（和/英） | / switching field distribution |
| キーワード(6)（和/英） | / HDD |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鎌田 芳幸 / Yoshiyuki Kamata / カマタ ヨシユキ |
| 第1著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba corporation (略称： Toshiba corp.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 前田 知幸 / Tomoyuki Maeda / マエダ トモユキ |
| 第2著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba corporation (略称： Toshiba corp.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 稗田 泰之 / Hiroyuki Hieda / ヒエダ ヒロユキ |
| 第3著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba corporation (略称： Toshiba corp.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山本 亮介 / Ryosuke Yamamoto / ヤマモト リョウスケ |
| 第4著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba corporation (略称： Toshiba corp.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 木原 尚子 / Naoko Kihara / キハラ ナオコ |
| 第5著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba corporation (略称： Toshiba corp.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 喜々津 哲 / Akira Kikitsu / キキツ アキラ |
| 第6著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba corporation (略称： Toshiba corp.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-10-19 08:55:00 |
| 発表時間 | 50分 |
| 申込先研究会 | MRIS |
| 資料番号 | MR2012-25 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.249 |
| ページ範囲 | pp.43-48 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2012-10-11 (MR) |
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