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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-12-07 16:00 プロトンビームを用いた強誘電体微構造の作製 ○山口正樹・渡辺和貴（芝浦工大）・増田陽一郎（八戸工大）  SDM2012-134 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2012-134 |
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| 抄録 | （和） | 次世代の微細加工手法であると考えられるプロトンビーム照射により，強誘電体膜へのパターン描画について検討を行なった．感光基を有するオクチル酸金属塩を原料として利用することで，750℃焼成膜において比較的平坦なc軸配向を得た．この前駆体膜に対するプロトンビーム照射において，マイクロパターンが形成されることが確認できた． |
| （英） | In the fabrication of micro-patterned ferroelectric bismuth titanate thin films were investigated. We use metal-octylate solutions as coating materials. Perovskite-phase bismuth titanate films without plate-like grains were formed over sintering temperature of 750 degree Celsius. Precursor micro-patterns were drawn by proton beam irradiation and development with toluene. The case of proton beam irradiation, shape of micro-patterns was just as a design. | |
| キーワード | （和） | マイクロパターン / チタン酸ビスマス / プロトンビーム / オクチル酸金属塩 / / / / |
| （英） | Micro-Pattern / Bismuth Titanate / Proton Beam / Metal-Octylate / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, no. 337, SDM2012-134, pp. 113-117, 2012年12月. | |
| 資料番号 | SDM2012-134 | |
| 発行日 | 2012-11-30 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2012-134 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2012-134 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2012-12-07 - 2012-12-07 |
| 開催地（和） | 京都大学(桂) |
| 開催地（英） | Kyoto Univ. (Katsura) |
| テーマ（和） | シリコン関連材料の作製と評価 |
| テーマ（英） | Fabrication and Characterization of Si-related Materials and Devices |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2012-12-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | プロトンビームを用いた強誘電体微構造の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of Ferroelectric Microstructures by Proton Beam Irradiation |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | マイクロパターン / Micro-Pattern |
| キーワード(2)（和/英） | チタン酸ビスマス / Bismuth Titanate |
| キーワード(3)（和/英） | プロトンビーム / Proton Beam |
| キーワード(4)（和/英） | オクチル酸金属塩 / Metal-Octylate |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山口 正樹 / Masaki Yamaguchi / ヤマグチ マサキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 芝浦工業大学 (略称： 芝浦工大) Shibaura Institute of Techinology (略称： Shibaura Inst. of Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 渡辺 和貴 / Kazuki Watanabe / ワタナベ カズキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 芝浦工業大学 (略称： 芝浦工大) Shibaura Institute of Techinology (略称： Shibaura Inst. of Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 増田 陽一郎 / Yoichiro Masuda / マスダ ヨウイチロウ |
| 第3著者 所属（和/英） | 八戸工業大学 (略称： 八戸工大) Hachinohe Institute of Techinology (略称： Hachinohe Inst. of Tech.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-12-07 16:00:00 |
| 発表時間 | 15分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2012-134 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.337 |
| ページ範囲 | pp.113-117 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2012-11-30 (SDM) |
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