| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2013-01-18 13:00
Siショットキーバリアダイオードを集積化したGaNトランジスタによるDC-DCコンバータの高効率動作 ○宇治田信二・森田竜夫・梅田英和・木下雄介・田村聡之・按田義治・上田哲三・田中 毅(パナソニック) ED2012-122 MW2012-152 |
| 抄録 |
(和) |
低電圧DC-DCコンバータ用途として、Siショットキーバリアダイオード(SBD)を集積化したノーマリオフGaNトランジスタを提案した。AlGaN/GaNへテロ接合を結晶成長するSi基板内にSBDを形成し、これを同Si基板上に形成したノーマリオフ方GaN-GIT(Gate Injection Transistor)とビアホールを介して接続した。Si-SBDは、GaN-GITのダイオードモードよりも低い順方向電圧を有するため、DC-DCコンバータにおけるローサイド側トランジスタ側に流れる還流電流が原因で生じるデッドタイム損失を低減することが出来る。GaN-GITのゲート長を0.5μmと短縮し、さらにSi-SBDを集積化したデバイスを作製し、これをDC-DCコンバータに適用した。この結果12Vを1.3VにDC変換した場合、2MHzにおいて89%の高効率動作を実現した。 |
| (英) |
We present a novel GaN-based normally-off transistor with an integrated Si Schottky barrier diode (SBD) for low voltage DC-DC converters. The integrated SBD is formed by the Si substrate for the epitaxial growth of AlGaN/GaN hetero-structure, which is connected to the normally-off GaN Gate Injection Transistor (GIT) over it with via-holes. The diode can flow the reverse current in the conversion operation with lower forward voltage than that of the lateral GaN transistor enabling lower operating loss. A DC-DC converter for the conversion from 12V down to 1.3V using the integrated devices with the reduced gate length down to 0.5m exhibits a high peak efficiency of 89% at 2MHz demonstrating the promising potential of GaN devices for the application. |
| キーワード |
(和) |
GaN / SBD / DCDCコンバータ / ノーマリオフ / / / / |
| (英) |
GaN / Si-SBD / DC-DC converter / normally-off / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 112, no. 380, ED2012-122, pp. 53-56, 2013年1月. |
| 資料番号 |
ED2012-122 |
| 発行日 |
2013-01-10 (ED, MW) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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