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講演抄録/キーワード
講演名 2013-02-27 13:30
[招待講演]グラフェンにおけるバリスティック伝導・光電圧効果
町田友樹東大/JST)・増渕 覚大貫雅広井口和之森川 生山口健洋荒井美穂東大)・渡邊賢司谷口 尚物質・材料研究機構ED2012-128 SDM2012-157 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2012-128 SDM2012-157
抄録 (和) 高移動度グラフェン/h-BNのバリスティック伝導に起因する磁気抵抗効果を調べた.バリスティックに伝導するディラックフェルミオンが伝導チャネル端で拡散的に散乱されることにより生じる磁気抵抗のピーク構造を観測した.磁気抵抗ピークにおけるサイクロトロン半径と伝導チャネル幅の整合係数は半導体二次元電子系とは異なる値を取り,グラフェン特有の端散乱の存在を示唆している.グラフェン/h-BNにおけるサイクロトロン共鳴により生じる光起電力効果についても議論する. 
(英) We study magnetotransport in ballistic graphene mesoscopic wires on hexagonal boron nitride (h-BN). We observed anomalous magnetoresistance curves with characteristic peak structures where the peak field scales with the ratio of cyclotron radius and wire width. The obtained commensurability ratio contrasts with that in semiconductor two-dimensional electron gas systems. In addition, the photovoltaic effect due to the cyclotron resonance in graphene/h-BN is presented.
キーワード (和) グラフェン / バリスティック伝導 / 光起電力 / 窒化ホウ素 / サイクロトロン共鳴 / / /  
(英) Graphene / Ballistic transport / Photovoltaic effect / Boron nitride / Cyclotron resonance / / /  
文献情報 信学技報, vol. 112, no. 446, SDM2012-157, pp. 1-5, 2013年2月.
資料番号 SDM2012-157 
発行日 2013-02-20 (ED, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2012-128 SDM2012-157 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2012-128 SDM2012-157

研究会情報
研究会 SDM ED  
開催期間 2013-02-27 - 2013-02-28 
開催地(和) 北海道大学(百年記念会館) 
開催地(英) Hokkaido Univ. 
テーマ(和) 機能ナノデバイスおよび関連技術 
テーマ(英) Functional nanodevices and related technologies 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2013-02-SDM-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) グラフェンにおけるバリスティック伝導・光電圧効果 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Ballistic transport and photovoltaic effect in graphene/h-BN 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) グラフェン / Graphene  
キーワード(2)(和/英) バリスティック伝導 / Ballistic transport  
キーワード(3)(和/英) 光起電力 / Photovoltaic effect  
キーワード(4)(和/英) 窒化ホウ素 / Boron nitride  
キーワード(5)(和/英) サイクロトロン共鳴 / Cyclotron resonance  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 町田 友樹 / Tomoki Machida / マチダ トモキ
第1著者 所属(和/英) 東京大学/JSTさきがけ (略称: 東大/JST)
University of Tokyo/JST (略称: Univ. of Tokyo/JST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 増渕 覚 / Satoru Masubuchi / マスブチ サトル
第2著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 大貫 雅広 / Masahiro Onuki / オオヌキ マサヒロ
第3著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 井口 和之 / Kazuyuki Iguchi / イグチ カズユキ
第4著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 森川 生 / Sei Morikawa / モリカワ セイ
第5著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 山口 健洋 / Takehiro Yamaguchi / ヤマグチ タケヒロ
第6著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 荒井 美穂 / Miho Arai / アライ ミホ
第7著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡邊 賢司 / Kenji Watanabe / ワタナベ ケンジ
第8著者 所属(和/英) 物質材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Institute for Material Science (略称: NIMS)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 谷口 尚 / Takashi Taniguchi / タニグチ タカシ
第9著者 所属(和/英) 物質材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Institute for Material Science (略称: NIMS)
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講演者 第1著者 
発表日時 2013-02-27 13:30:00 
発表時間 40分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 ED2012-128, SDM2012-157 
巻番号(vol) vol.112 
号番号(no) no.445(ED), no.446(SDM) 
ページ範囲 pp.1-5 
ページ数
発行日 2013-02-20 (ED, SDM) 


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