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| 講演名 | 2013-04-18 15:55 ［招待講演］UVナノインプリントによって形成したナノチャンネルFIELO法による低転位GaNテンプレート基板作製の研究 ○水野 潤・岡田愛姫子・庄子習一（早大）・山口敦史（金沢工大）・後藤裕輝・砂川晴夫・松枝敏晴（古河機械金属）・篠原秀敏・西原浩巳・後藤博史（東芝機械）・碓井 彰（古河機械金属）  ED2013-8 |
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| 抄録 | （和） | UVナノインプリント技術によって形成するナノチャンネルFIELO法を提案し、サファイア基板上のGaN結晶において、膜厚20um以下で5×107/cm2 以下の転位密度を実現できることを確認した。 |
| （英） | Nano-channel FIELO (facet-initiated lateral overgrowth) using UV nanoimprint has been proposed. The etch pit density measurements reveal that the dislocation density of the GaN template was estimated to 5 × 107/cm2 | |
| キーワード | （和） | UVインプリント / ナノチャネルFIELO法 / GaNテンプレート / LED / / / / |
| （英） | UV nanoimprint / Nano-channel FIELO / GaN template / LED / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 113, no. 9, ED2013-8, pp. 27-29, 2013年4月. | |
| 資料番号 | ED2013-8 | |
| 発行日 | 2013-04-11 (ED) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2013-8 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2013-04-18 - 2013-04-19 |
| 開催地（和） | 東北大学電通研 片平北キャンパス ナノ・スピン総合研究棟4階 カンファレンスルーム |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 有機デバイス・酸化物デバイス・一般 |
| テーマ（英） | Organic Devices, Oxide Devices, and others |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2013-04-ED |
| 本文の言語 | 英語（日本語タイトルあり） |
| タイトル（和） | UVナノインプリントによって形成したナノチャンネルFIELO法による低転位GaNテンプレート基板作製の研究 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Study of High Quality GaN Template by Nano-channel FIELO Using UV Nanoimprint |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | UVインプリント / UV nanoimprint |
| キーワード(2)（和/英） | ナノチャネルFIELO法 / Nano-channel FIELO |
| キーワード(3)（和/英） | GaNテンプレート / GaN template |
| キーワード(4)（和/英） | LED / LED |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 水野 潤 / Jun Mizuno / ミズノ ジュン |
| 第1著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岡田 愛姫子 / Akiko Okada / オカダ アキコ |
| 第2著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 庄子 習一 / Shuichi Shoji / ショウジ シュウイチ |
| 第3著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山口 敦史 / Atsushi Yamaguchi / ヤマグチ アツシ |
| 第4著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： Kanazawa Inst. of Tech.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 後藤 裕輝 / Hiroki Goto / ゴトウ ヒロキ |
| 第5著者 所属（和/英） | 古河機械金属株式会社 (略称： 古河機械金属) Furukawa Co.Ltd (略称： Furukawa) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 砂川 晴夫 / Haruo Sunakawa / スナカワ ハルオ |
| 第6著者 所属（和/英） | 古河機械金属株式会社 (略称： 古河機械金属) Furukawa Co.Ltd (略称： Furukawa) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松枝 敏晴 / Toshiharu Matsueda / マツエダ トシハル |
| 第7著者 所属（和/英） | 古河機械金属株式会社 (略称： 古河機械金属) Furukawa Co.Ltd (略称： Furukawa) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 篠原 秀敏 / Hidetoshi Shinohara / シノハラ ヒデトシ |
| 第8著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社 (略称： 東芝機械) Toshiba Machine Co.Ltd. (略称： Toshiba Machine) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西原 浩巳 / Hiromi Nishihara / ニシハラ ヒロミ |
| 第9著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社 (略称： 東芝機械) Toshiba Machine Co.Ltd. (略称： Toshiba Machine) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | 後藤 博史 / Hiroshi Goto / ゴトウ ヒロシ |
| 第10著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社 (略称： 東芝機械) Toshiba Machine Co.Ltd. (略称： Toshiba Machine) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | 碓井 彰 / Akira Usui / ウスイ アキラ |
| 第11著者 所属（和/英） | 古河機械金属株式会社 (略称： 古河機械金属) Furukawa Co.Ltd (略称： Furukawa) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2013-04-18 15:55:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2013-8 |
| 巻番号（vol） | vol.113 |
| 号番号（no） | no.9 |
| ページ範囲 | pp.27-29 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2013-04-11 (ED) |
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