講演抄録/キーワード |
講演名 |
2013-06-21 09:45
感光性スピンコート膜を用いたパターン形成とデバイス応用 加藤大智・田中邦明・○臼井博明(東京農工大) EMD2013-9 CPM2013-24 OME2013-32 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2013-9 CPM2013-24 OME2013-32 |
抄録 |
(和) |
正孔輸送性ビニルモノマーと光重合開始剤をスピンコートすることにより,感光性低分子薄膜を形成した.これにマスクを通して紫外線露光することで選択的に重合させ,溶媒でリンスすることで未重合部分を取り除き高分子薄膜パターンを形成した.特に2官能性モノマーを用い,パターン形成後に加熱処理を行うことで,耐溶媒性を持つパターンを得ることができた.また,燐光性イリジウム錯体をドープしたパターンを得ることもできた.これを利用して有機発光素子(EL)を作製し,発光を確認した. |
(英) |
A mixture of a vinyl monomer and a photoinitiator was spin-coated to obtain a photoreactive thin film of small molecules. The film was irradiated with UV light through a photomask to selectively polymerize the irradiated part, and then rinsed in an organic solvent to obtain a patterned polymer thin film. It was found that by using a bifunctional monomer and annealing the film after the patterning, the patterned film attains high resistivity to organic solvents. It was also possible to dope the pattern with a phosphorescent iridium complex. The film was applied to prepare an organic light emitting diode. |
キーワード |
(和) |
感光性有機膜 / 光重合 / パターン形成 / 正孔輸送性高分子 / 有機EL / / / |
(英) |
Photoreactive organic film / Photopolymerization / Patterning / Hole-transport polymer / OLED / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 113, no. 98, OME2013-32, pp. 13-17, 2013年6月. |
資料番号 |
OME2013-32 |
発行日 |
2013-06-14 (EMD, CPM, OME) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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