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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2013-07-12 14:15 電気化学的手法により形成した超高記録密度強磁性ナノドットアレイの初期析出過程の解析及び特性評価 ○ヴォダルツ ジギー・間庭佑太・萩原弘規・本間敬之（早大）  MR2013-8 |
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| 抄録 | （和） | 我々は，電気化学的手法である電解析出法とリソグラフィ技術を用いて，ビットパターンメディア（BPM）への応用を目的とした強磁性ナノドットアレイの形成を試みている．本研究では強磁性体としてhcp-Co-Pt(002)とL10-Fe-Ptに着目し，下地層としてhcp-Ru(002)層を用いることで，極薄膜での磁気特性向上を試みた．また，電子線描画法により形成したナノドットパターンに対して電解析出法によりCo-Pt及びFe-Ptを充填し，強磁性ナノドットアレイの形成及び初期析出過程の解析を試みた．その結果Ru下地層を用いることで，形成されたCo-Pt薄膜の保磁力向上，結晶性向上が確認された．電子線描画法を用いたプロセスでは2Tbpsiに相当する18 nm周期，10 nm径のCo-Ptナノドットアレイの形成を確認した．初期析出解析を行なった結果，印加電位によりナノドット内におけるCo-Ptの粒径が制御可能であることが示された．Fe-Ptに関しては，アニール処理によりL10構造への相転移が確認され，保磁力の向上が示された． |
| （英） | We have been fabricating ferromagnetic nanodot arrays for bit patterned media (BPM) by using lithography techniques and electrochemical processes. In this research, we attemped to fabricate hcp-Co-Pt(002) and L10-Fe-Pt thin films and nanodot arrays with high coercivity. Nano-patterns were formed by electron beam lithography (EBL) and Co-Pt and Fe-Pt were electrodeposited into the nano-patterns. For obtaining Co-Pt thin films and nanodot arrays with high perpendicular coercivities, we applied hcp-Ru(002) intermediate layer on Si substrate. As a result, the magnetic properties and the crystallinities of Co-Pt thin films and nanodot arrays were improved by using Ru(002) layer, and Co-Pt nanodot arrays with 10 nm diameters and 18 nm pitches were observed. Investigation of initial deposition suggested that the particle size of Co-Pt can be controlled by changing the applied potential. The phase transformation from fcc-Fe-Pt to L10-Fe-Pt was verified by annealing, and the coercivities of Fe-Pt were improved. | |
| キーワード | （和） | BPM / 電解析出法 / Co-Pt / Fe-Pt / 電子線描画法 / / / |
| （英） | BPM / Electrodeposition / Co-Pt / Fe-Pt / Electron Beam Lithography / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 113, 2013年7月. | |
| 資料番号 | ||
| 発行日 | 2013-07-05 (MR) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MR2013-8 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS ITE-MMS |
| 開催期間 | 2013-07-12 - 2013-07-12 |
| 開催地（和） | 中央大学 |
| 開催地（英） | Chuo Univ. |
| テーマ（和） | 固体メモリ・媒体，一般 |
| テーマ（英） | Solid State Memory, Media, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MRIS |
| 会議コード | 2013-07-MR-MMS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 電気化学的手法により形成した超高記録密度強磁性ナノドットアレイの初期析出過程の解析及び特性評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characterization and analysis of deposition process of ultra-high density magnetic nanodot arrays fabricated by electrochemical processes |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | BPM / BPM |
| キーワード(2)（和/英） | 電解析出法 / Electrodeposition |
| キーワード(3)（和/英） | Co-Pt / Co-Pt |
| キーワード(4)（和/英） | Fe-Pt / Fe-Pt |
| キーワード(5)（和/英） | 電子線描画法 / Electron Beam Lithography |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | ヴォダルツ ジギー / Siggi Wodarz / ヴォダルツ ジギー |
| 第1著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 間庭 佑太 / Yuta Maniwa / マニワ ユウタ |
| 第2著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 萩原 弘規 / Hiroki Hagiwara / ハギワラ ヒロキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 本間 敬之 / Takayuki Homma / ホンマ タカユキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2013-07-12 14:15:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | MRIS |
| 資料番号 | MR2013-8 |
| 巻番号（vol） | vol.113 |
| 号番号（no） | no.127 |
| ページ範囲 | pp.13-17 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2013-07-05 (MR) |
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