| 研究会情報 |
| 研究会 |
ED |
| 開催期間 |
2013-08-08 - 2013-08-09 |
| 開催地(和) |
富山大学工学部 大会議室 |
| 開催地(英) |
University of Toyama |
| テーマ(和) |
半導体プロセス・デバイス(表面、界面、信頼性)、一般 |
| テーマ(英) |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
ED |
| 会議コード |
2013-08-ED |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
スパッタリング堆積BN膜のAlGaN/GaN金属-絶縁体-半導体ヘテロ接合電界効果トランジスタへの応用 |
| サブタイトル(和) |
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| タイトル(英) |
Application of sputtering-deposited BN films to AlGaN/GaN metal-insulator-semiconductor heterojunction field-effect transistors |
| サブタイトル(英) |
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| キーワード(1)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
山本 裕司 / Yuji Yamamoto / ヤマモト ユウジ |
| 第1著者 所属(和/英) |
北陸先端科学技術大学院大学 (略称: 北陸先端大)
Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称: JAIST) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
Tuan Quy Nguyen / Tuan Quy Nguyen / トゥアン クィ グエン |
| 第2著者 所属(和/英) |
北陸先端科学技術大学院大学 (略称: 北陸先端大)
Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称: JAIST) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
Hong-An Shih / Hong-An Shih / ホン アン シー |
| 第3著者 所属(和/英) |
北陸先端科学技術大学院大学 (略称: 北陸先端大)
Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称: JAIST) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
工藤 昌宏 / Masahiro Kudo / クドウ マサヒロ |
| 第4著者 所属(和/英) |
北陸先端科学技術大学院大学 (略称: 北陸先端大)
Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称: JAIST) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
鈴木 寿一 / Toshi-kazu Suzuki / スズキ トシカズ |
| 第5著者 所属(和/英) |
北陸先端科学技術大学院大学 (略称: 北陸先端大)
Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称: JAIST) |
| 第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2013-08-08 16:20:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
ED |
| 資料番号 |
ED2013-41 |
| 巻番号(vol) |
vol.113 |
| 号番号(no) |
no.176 |
| ページ範囲 |
pp.19-23 |
| ページ数 |
5 |
| 発行日 |
2013-08-01 (ED) |