講演抄録/キーワード |
講演名 |
2013-08-09 09:50
Ga/Si(111)表面再構成構造を用いたSi(111)基板上GaSbナノ構造の形成 ○町田龍人・戸田隆介・吉木圭祐・藤川紗千恵(東京理科大)・原 紳介(NICT)・色川勝己・三木裕文(東京理科大)・河津 璋(東京電機大)・藤代博記(東京理科大) ED2013-46 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2013-46 |
抄録 |
(和) |
Si基板上のGaSbナノ構造は近赤外の発光素子への応用が期待されており,エピタキシャル成長法による形成の制御技術を確立することが求められている。本研究ではGa/Si(111)表面再構成構造上にGaSbを成長させ,Ga/Si(111)表面がGaSbナノ構造の形成に与える影響をSTMとAFMにより解析した.結果として基板温度350 °CにおいてGa/Si(111)-√3×√3表面上で,高密度かつ均一なGaSbナノ構造の形成が確認された. |
(英) |
Gallium antimonide (GaSb) nanostructures on Si (Silicon) have been intensely studied due to the application as a near-infrared light source. Therefore, it is important to control the formation of GaSb nanostructure by epitaxial growth technique. In this study, we have studied the effect of several types of the Ga/Si(111) surface reconstructions on the growth morphology of GaSb islands by ultrahigh-vacuum scanning tunneling microscopy (UHV-STM) and non-contact atomic force microscopy (NC-AFM). On the Ga/Si(111)-√3×√3, the high-density and uniform-sized GaSb islands were formed at 350 °C. |
キーワード |
(和) |
GaSb / Si(111) / 走査型トンネル顕微鏡 / 原子間力顕微鏡 / / / / |
(英) |
GaSb / Si(111) / scanning tunneling microscopy / atomic force microscopy / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 113, no. 176, ED2013-46, pp. 43-48, 2013年8月. |
資料番号 |
ED2013-46 |
発行日 |
2013-08-01 (ED) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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