お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2013-11-17 09:40
Time Variation of Contact Resistance after Contact of Silver Electrical Contacts
Satoshi IshikuraJunya SekikawaShizuoka Univ.EMD2013-105 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2013-105
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
(英) he time variation of contact resistance of silver contacts is measured. The contacts are contacted at constant contact load, and then the time variation of the resistance is measured for 600 minutes. The contact load is in the range 0.01N to 1N. Results are as follows. The contact resistance decreases with lapse of time. The tendency of decreasing of the contact resistance is stable at the contact load of 1.00N, 0.50N and 0.20N, the rapid decreasing of the resistance is observed at the contact load of 0.1N and 0.05N, and the irregular tendency of decreasing of the resistance is observed at the contact load of 0.02N and 0.01N. For the all experiments, the contact resistance becomes almost constant near the time end of 600 minutes.
キーワード (和) / / / / / / /  
(英) Ag contacts / Spring / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, no. 298, EMD2013-105, pp. 123-126, 2013年11月.
資料番号 EMD2013-105 
発行日 2013-11-09 (EMD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMD2013-105 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2013-105

研究会情報
研究会 EMD  
開催期間 2013-11-16 - 2013-11-17 
開催地(和) 華中科技大学(中国・武漢) 
開催地(英) Huazhong University of Science and Technology, Wuhan, P.R.China 
テーマ(和) 国際セッションIS-EMD2013 
テーマ(英) International Session IS-EMD2013 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMD 
会議コード 2013-11-EMD 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Time Variation of Contact Resistance after Contact of Silver Electrical Contacts 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) / Ag contacts  
キーワード(2)(和/英) / Spring  
キーワード(3)(和/英) /  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 石倉 智史 / Satoshi Ishikura / イシクラ サトシ
第1著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 関川 純哉 / Junya Sekikawa / セキカワ ジュンヤ
第2著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2013-11-17 09:40:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 EMD 
資料番号 EMD2013-105 
巻番号(vol) vol.113 
号番号(no) no.298 
ページ範囲 pp.123-126 
ページ数
発行日 2013-11-09 (EMD) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会