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講演抄録/キーワード
講演名 2013-11-28 15:10
低Mgドープp-GaNショットキー接触のAC動作
塩島謙次青木俊周福井大)・金田直樹三島友義日立金属ED2013-72 CPM2013-131 LQE2013-107
抄録 (和) 電圧掃引速度、掃引方向を変化させたI-V測定、及び交流測定を低Mgドープp-GaNショットキー接触に対して行った。I-V測定において、電流が掃引速度に依存し、また掃引方向を変えることにより電流の極性が反転することを発見した。この系では障壁高さが非常に高く、真電流の寄与が小さく、変位電流の存在を検出したと考えられる。さらに、矩形波、正弦波電圧を入力した交流動作においても、出力電流に変位成分が寄与する微分動作を観測した。 
(英) Current-voltage (I-V) characteristics with variations of voltage sweep speed (vsweep) and changing sweep directions, and alternating current (AC) operation of low-Mg-doped p-GaN Schottky contacts were analyzed. In the I-V characteristics, proportional relationship between vsweep and current, and polarity inversion of the current were observed when the applied voltage was low, which indicates the existence of a displacement current. In the AC operations under the square- and sinusoidal-wave input, a conventional rectifying operation was observed when the input voltage was relatively high. However, we found differential operation in the output current when the input voltage was low, where the displacement current was dominant.
キーワード (和) p-GaN / ショットキーダイオード / 低Mgドーピング / 変位電流 / 交流動作 / / /  
(英) p-GaN / Schottky diode / Low Mg doping / Displacement current / AC operation / / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, no. 329, ED2013-72, pp. 39-42, 2013年11月.
資料番号 ED2013-72 
発行日 2013-11-21 (ED, CPM, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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PDFダウンロード ED2013-72 CPM2013-131 LQE2013-107

研究会情報
研究会 CPM LQE ED  
開催期間 2013-11-28 - 2013-11-29 
開催地(和) 大阪大学 吹田キャンパス 
開催地(英)  
テーマ(和) 窒化物及び混晶半導体デバイス、及び一般 
テーマ(英) Nitride and Compound Semiconductor Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2013-11-CPM-LQE-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 低Mgドープp-GaNショットキー接触のAC動作 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) AC Operation of Low-Mg-Doped p-GaN Schottky Diodes 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) p-GaN / p-GaN  
キーワード(2)(和/英) ショットキーダイオード / Schottky diode  
キーワード(3)(和/英) 低Mgドーピング / Low Mg doping  
キーワード(4)(和/英) 変位電流 / Displacement current  
キーワード(5)(和/英) 交流動作 / AC operation  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 塩島 謙次 / Kenji Shiojima / シオジマ ケンジ
第1著者 所属(和/英) 福井大学 (略称: 福井大)
University of Fukui (略称: Univ. of Fukui)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 青木 俊周 / Toshichika Aoki / アオキ トシチカ
第2著者 所属(和/英) 福井大学 (略称: 福井大)
University of Fukui (略称: Univ. of Fukui)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 金田 直樹 / Naoki Kaneda / カネダ ナオキ
第3著者 所属(和/英) 日立金属株式会社 (略称: 日立金属)
Hitachi Metal Ltd. (略称: Hitachi Metal)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 三島 友義 / Tomoyoshi Mishima / ミシマ トモヨシ
第4著者 所属(和/英) 日立金属株式会社 (略称: 日立金属)
Hitachi Metal Ltd. (略称: Hitachi Metal)
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講演者 第1著者 
発表日時 2013-11-28 15:10:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2013-72, CPM2013-131, LQE2013-107 
巻番号(vol) vol.113 
号番号(no) no.329(ED), no.330(CPM), no.331(LQE) 
ページ範囲 pp.39-42 
ページ数
発行日 2013-11-21 (ED, CPM, LQE) 


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