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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2014-01-24 14:18 高温CVDにより成長した六方晶BN薄膜の発光特性 ○梅原直己・桑原伊織・李 惠映・光野徹也・小南裕子・中西洋一郎・原 和彦（静岡大）  EID2013-14 |
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| 抄録 | （和） | BCl3とNH3を原料とする常圧の化学気相法を用いて，c面サファイア基板上に六方晶窒化ホウ素(h-BN)薄膜の作製を行った．成長温度は1300～1700 °Cであり，同じ温度でNH3による基板表面の窒化を行った後に成長を開始した．X線回折の成長温度依存性から，成長温度の上昇に伴い結晶化が促進され，1500 °Cでc軸に強く配向した薄膜が得られた．しかしさらに高い温度では，過度の基板窒化による結晶性の劣化が示唆された．カソードルミネッセンス特性は結晶性と相関があり，1500 °Cで作製した試料において，h-BNからの明確な発光が観測された． |
| （英） | Hexagonal boron nitride (h-BN) thin films have been grown on a c-plane sapphire substrate by atmospheric-pressure chemical vapor deposition using BCl3 and NH3 as precursors. The growth temperature (Tg) was varied from 1300 to 1700 °C. Prior to growth, the substrate surface was nitrided in a NH3 flow at Tg. The XRD measurement has indicated that the crystallization is promoted with increasing Tg from 1300 C, resulting in the growth of the film strongly oriented towards c-axis at 1500 °C. However, the further increase of Tg deteriorated the crystalline quality, which suggests the excessive nitridation of the substrate surface. The cathodoluminescence property has a correlation with the crystalline quality. The pronounced emission band characteristic of h-BN was also observed from the film grown at 1500 °C. | |
| キーワード | （和） | 六方晶窒化ホウ素 / CVD / 薄膜 / カソードルミネッセンス / / / / |
| （英） | hexagonal boron nitride / CVD / thin film / cathodoluminescence / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 113, no. 408, EID2013-14, pp. 25-28, 2014年1月. | |
| 資料番号 | EID2013-14 | |
| 発行日 | 2014-01-17 (EID) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EID2013-14 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID ITE-IDY IEIJ-SSL IEE-EDD SID-JC |
| 開催期間 | 2014-01-24 - 2014-01-25 |
| 開催地（和） | 新潟大学 駅南キャンパス |
| 開催地（英） | Niigata University |
| テーマ（和） | 発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | EID |
| 会議コード | 2014-01-EID-IDY-SSL-EDD-JC |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 高温CVDにより成長した六方晶BN薄膜の発光特性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Luminescence property of hexagonal boron nitride films grown by high-temperature CVD |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 六方晶窒化ホウ素 / hexagonal boron nitride |
| キーワード(2)（和/英） | CVD / CVD |
| キーワード(3)（和/英） | 薄膜 / thin film |
| キーワード(4)（和/英） | カソードルミネッセンス / cathodoluminescence |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 梅原 直己 / Naoki Umehara / ウメハラ ナオキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 桑原 伊織 / Iori Kuwahara / クワハラ イオリ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 李 惠映 / Hye-Young Lee / イ ヘヨン |
| 第3著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 光野 徹也 / Tetsuya Kouno / コウノ テツヤ |
| 第4著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小南 裕子 / Hiroko Kominami / コミナミ ヒロコ |
| 第5著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中西 洋一郎 / Yoichiro Nakanishi / ナカニシ ヨウイチロウ |
| 第6著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 原 和彦 / Kazuhiko Hara / ハラ カズヒコ |
| 第7著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2014-01-24 14:18:00 |
| 発表時間 | 8分 |
| 申込先研究会 | EID |
| 資料番号 | EID2013-14 |
| 巻番号（vol） | vol.113 |
| 号番号（no） | no.408 |
| ページ範囲 | pp.25-28 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2014-01-17 (EID) |
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