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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2014-05-29 09:55 ［招待講演］半正定値緩和を用いたマルチパターニングリソグラフィ ○松井知己（東工大）  VLD2014-4 |
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| 抄録 | （和） | リソグラフィ技術の一つであるマルチパターニングリソグラフィにおいて解かれる，レイアウトを2つあるいは3つのマスクに分割する問題は，無向グラフの頂点に対するマルチクラスタ分割問題として定式化することができる．近年この問題に対して，半正定値計画緩和(Positive Semidefinite Relaxation)を用いて解を得る手法がいくつか提案されている．本稿では，この手法に関する基本的な仕組みと，その適用可能性について解説する． |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | マルチパターニングリソグラフィ / 半正定値計画 / / / / / / |
| （英） | Multiple Patterning Lithography / Positive Semidefinite Relaxation / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, no. 59, VLD2014-4, pp. 19-19, 2014年5月. | |
| 資料番号 | VLD2014-4 | |
| 発行日 | 2014-05-22 (VLD) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2014-4 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD IPSJ-SLDM |
| 開催期間 | 2014-05-28 - 2014-05-29 |
| 開催地（和） | 北九州国際会議場 11会議室 |
| 開催地（英） | Kitakyushu International Conference Center |
| テーマ（和） | システム設計および一般（5月28日はLSIとシステムのワークショップと共同企画） |
| テーマ（英） | System Design, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2014-05-VLD-SLDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 半正定値緩和を用いたマルチパターニングリソグラフィ |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Multiple Patterning Lithography by Positive Semidefinite Relaxation |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | マルチパターニングリソグラフィ / Multiple Patterning Lithography |
| キーワード(2)（和/英） | 半正定値計画 / Positive Semidefinite Relaxation |
| キーワード(3)（和/英） | / |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松井 知己 / Tomomi Matsui / マツイ トモミ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： TITECH) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2014-05-29 09:55:00 |
| 発表時間 | 60分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2014-4 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.59 |
| ページ範囲 | p.19 |
| ページ数 | 1 |
| 発行日 | 2014-05-22 (VLD) |
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