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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2014-06-20 09:20 フレキシブル透明TFTに向けた低温プロセスZnO薄膜の結晶性評価 ○渡邉 拓・モハマッ カーフィ アディー ビン・山内 博・國吉繁一・飯塚正明・酒井正俊・工藤一浩（千葉大）  EMD2014-9 CPM2014-29 OME2014-17 エレソ技報アーカイブへのリンク：EMD2014-9 CPM2014-29 OME2014-17 |
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| 抄録 | （和） | 印刷法によるフレキシブルディスプレイの実現に向けて、透明な塗布型ZnO-FET上に有機発光層を積層した構造を提案した。横型のZnO-FETを作製しUV/O3アシストにより低温領域内で電流値の向上が見られ低プロセス温度化を実現した。この要因をX線回折評価法で調べたところ、ZnOは低温領域では結晶化しておらず、上記の電流値の向上はUV/O3アシストによる薄膜内に存在する有機系不純物除去量の増加が主な原因として挙げられる。 |
| （英） | We proposed a new flexible organic light emitting transistor (OLET) that had an OLED directly on transparent FETs fabricated on a plastic substrate. In this study, the effects of UV/O3 and thermal treatment on wet processed ZnO-FET characteristics were investigated. Realizing a low-process temperature of ZnO-FET was successful in terms of the mobility and current. We evaluated the crystallinity of ZnO films by X-ray diffraction and found it non-crystalline form in the range of the low-process temperature less than 300 degree C. These results indicate that UV/O3 treatment mainly leads to such as a decrease of organic impurities in ZnO thin films and improve carrier transportation. | |
| キーワード | （和） | 塗布型ZnO / 透明ZnOトランジスタ / UV/O3アシスト熱処理法 / ZnO結晶性評価 / / / / |
| （英） | wet process / transparent ZnO-TFT / UV/O3 assisted thermal treatment / crystalline evaluation / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, no. 96, OME2014-17, pp. 5-9, 2014年6月. | |
| 資料番号 | OME2014-17 | |
| 発行日 | 2014-06-13 (EMD, CPM, OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EMD2014-9 CPM2014-29 OME2014-17 エレソ技報アーカイブへのリンク：EMD2014-9 CPM2014-29 OME2014-17 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME EMD CPM |
| 開催期間 | 2014-06-20 - 2014-06-20 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 材料デバイスサマーミーティング |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2014-06-OME-EMD-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | フレキシブル透明TFTに向けた低温プロセスZnO薄膜の結晶性評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Crystalline Evaluation of ZnO Thin Film Fabricated by Low-temperature Process for Flexible Transparent TFT |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 塗布型ZnO / wet process |
| キーワード(2)（和/英） | 透明ZnOトランジスタ / transparent ZnO-TFT |
| キーワード(3)（和/英） | UV/O3アシスト熱処理法 / UV/O3 assisted thermal treatment |
| キーワード(4)（和/英） | ZnO結晶性評価 / crystalline evaluation |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 渡邉 拓 / Hiraku Watanabe / ワタナベ ヒラク |
| 第1著者 所属（和/英） | 千葉大学 (略称： 千葉大) Chiba University (略称： Chiba Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | モハマッ カーフィ アディー ビン / Mohd Khafe Adie Bin / |
| 第2著者 所属（和/英） | 千葉大学 (略称： 千葉大) Chiba University (略称： Chiba Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山内 博 / Hiroshi Yamauchi / ヤマウチ ヒロシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 千葉大学 (略称： 千葉大) Chiba University (略称： Chiba Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 國吉 繁一 / Shigekazu Kuniyoshi / クニヨシ シゲカズ |
| 第4著者 所属（和/英） | 千葉大学 (略称： 千葉大) Chiba University (略称： Chiba Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 飯塚 正明 / Masaaki Iizuka / イイツカ マサアキ |
| 第5著者 所属（和/英） | 千葉大学 (略称： 千葉大) Chiba University (略称： Chiba Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 酒井 正俊 / Masatoshi Sakai / サカイ マサトシ |
| 第6著者 所属（和/英） | 千葉大学 (略称： 千葉大) Chiba University (略称： Chiba Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 工藤 一浩 / Kazuhiro Kudo / クドウ カズヒロ |
| 第7著者 所属（和/英） | 千葉大学 (略称： 千葉大) Chiba University (略称： Chiba Univ.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2014-06-20 09:20:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | EMD2014-9, CPM2014-29, OME2014-17 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.94(EMD), no.95(CPM), no.96(OME) |
| ページ範囲 | pp.5-9 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2014-06-13 (EMD, CPM, OME) |
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