| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2014-08-05 09:50
完全空乏型Silicon-on-Thin-BOX (SOTB) SRAMセルにおける最低動作電圧 (Vmin) の統計的解析 ○水谷朋子(東大)・山本芳樹・槇山秀樹・山下朋弘・尾田秀一・蒲原史朗・杉井信之(超低電圧デバイス技研組合)・平本俊郎(東大) SDM2014-72 ICD2014-41 |
| 抄録 |
(和) |
65nm技術で作製した完全空乏型Silicon-on-Thin-BOX (SOTB) SRAMセルの最低動作電圧 (Vmin) を測定し,統計的解析を行った.Vminは正規分布ではなく,対数正規分布に従うことを実測で示した.さらに,ワーストセルのVminの振る舞いは,平均的なセルのVminやスタティックノイズマージン (SNM) とは異なることを示し,大容量SRAMセルの安定性は,ワーストセルのVminで評価しなければならないことを明らかにした. |
| (英) |
The minimum operation voltage (Vmin) of fully depleted (FD) silicon-on-thin-BOX (SOTB) SRAM cells are measured and statistically analyzed. It is newly found that Vmin deviates from a normal distribution and follows a log-normal distribution. Furthermore, it is found that the behaviors of the worst Vmin are different from the median Vmin or static noise margin (SNM), indicating that cell stability of high density SRAM must be judged by the worst Vmin. |
| キーワード |
(和) |
ばらつき / 最低動作電圧 / FD SOI / / / / / |
| (英) |
Variability / Minimum Operation Voltage / FD SOI / / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 114, no. 174, SDM2014-72, pp. 55-58, 2014年8月. |
| 資料番号 |
SDM2014-72 |
| 発行日 |
2014-07-28 (SDM, ICD) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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