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講演抄録/キーワード
講演名 2014-10-17 10:00
ラジカル窒化法により形成したSi3N4/Si界面に形成される組成遷移層に関する研究
諏訪智之寺本章伸須川成利大見忠弘東北大SDM2014-89 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2014-89
抄録 (和) ラジカル窒化により形成したSi3N4/Si界面におけるSi基板側に形成される遷移層の構造を明らかにすることを目的とし、高分解能軟X線角度分解光電子分光法を用いてSi 2p光電子スペクトル測定を行った。Si(100)基板上に形成した窒化膜において、窒化膜側の組成遷移層およびシリコン基板側の組成遷移層の構造を明らかにした。シリコン基板側に形成される遷移層中のβ-Siの量は、ラジカル酸化よりもラジカル窒化の方が多いことが分かった。 
(英) The angle-resolved Si 2p photoelectron spectra arising from the transition layers formed on the Si3N4/Si interface were measured with the probing depth of nearly 2 nm. It was clarified the compositional transition layers formed at Si3N4/Si interface. The chemical structures of transition layers formed on Si substrate side are also discussed.
キーワード (和) Si3N4/Si界面 / 光電子分光 / 組成遷移層 / / / / /  
(英) Si3N4/Si interface / photoelectron spectroscopy / compositional transition layer / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 114, no. 255, SDM2014-89, pp. 31-34, 2014年10月.
資料番号 SDM2014-89 
発行日 2014-10-09 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2014-89 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2014-89

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2014-10-16 - 2014-10-17 
開催地(和) 東北大学未来研 
開催地(英) Niche, Tohoku Univ. 
テーマ(和) プロセス科学と新プロセス技術 
テーマ(英) Process Science and New Process Technology 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2014-10-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ラジカル窒化法により形成したSi3N4/Si界面に形成される組成遷移層に関する研究 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Study on compositional transition layers at Si3N4/Si interface formed by radical nitridation 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Si3N4/Si界面 / Si3N4/Si interface  
キーワード(2)(和/英) 光電子分光 / photoelectron spectroscopy  
キーワード(3)(和/英) 組成遷移層 / compositional transition layer  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
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キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 諏訪 智之 / Tomoyuki Suwa / スワ トモユキ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 寺本 章伸 / Akinobu Teramoto / テラモト アキノブ
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 須川 成利 / Shigetoshi Sugawa / スガワ シゲトシ
第3著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 大見 忠弘 / Tadahiro Ohmi / オオミ タダヒロ
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2014-10-17 10:00:00 
発表時間 30分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2014-89 
巻番号(vol) vol.114 
号番号(no) no.255 
ページ範囲 pp.31-34 
ページ数
発行日 2014-10-09 (SDM) 


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