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講演抄録/キーワード
講演名 2014-11-27 14:05
窒化物LED高効率化のためのナノインプリントとドライエッチングによる微細加工制御技術
鹿嶋行雄松浦恵里子丸文)・嶋谷 聡東京応化)・小久保光典田代貴晴大川貴史東芝機械)・上村隆一郎長田大和アルバック)・藤川紗千恵平山秀樹理研ED2014-79 CPM2014-136 LQE2014-107 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2014-79 CPM2014-136 LQE2014-107
抄録 (和) フォトニック結晶を窒化物LEDに形成し、光取出し効率を向上した結果を示す。また、シミュレーションによるフォトニック結晶の設計からモールド作成、二層レジストを利用したナノインプリントによるパターンの転写、ドライエッチングによるフォトニック結晶の形成に至る一貫した微細加工制御技術を併せて紹介する。 
(英) We fabricated the photonic crystal in nitride LED and improved the light extraction efficiency. We also introduce the micro machining process integration technology from designing the mold by simulation, patterning of bi-layer resist by nano imprint and forming the photonic crystal by dry etching.
キーワード (和) 光取出し効率 / フォトニック結晶 / 二層レジスト / ナノインプリント / ドライエッチング / / /  
(英) Light extraction efficiency / Photonic crystal / Bi-layer resist / Nano-imprint / Dry etching / / /  
文献情報 信学技報, vol. 114, no. 338, LQE2014-107, pp. 27-32, 2014年11月.
資料番号 LQE2014-107 
発行日 2014-11-20 (ED, CPM, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2014-79 CPM2014-136 LQE2014-107 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2014-79 CPM2014-136 LQE2014-107

研究会情報
研究会 LQE ED CPM  
開催期間 2014-11-27 - 2014-11-28 
開催地(和) 大阪大学 吹田キャンパス 理工学図書館 
開催地(英)  
テーマ(和) 窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 LQE 
会議コード 2014-11-LQE-ED-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 窒化物LED高効率化のためのナノインプリントとドライエッチングによる微細加工制御技術 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) The micro machining process technology of nano imprint and dry etching to improve the efficiency of nitride LED 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 光取出し効率 / Light extraction efficiency  
キーワード(2)(和/英) フォトニック結晶 / Photonic crystal  
キーワード(3)(和/英) 二層レジスト / Bi-layer resist  
キーワード(4)(和/英) ナノインプリント / Nano-imprint  
キーワード(5)(和/英) ドライエッチング / Dry etching  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 鹿嶋 行雄 / Yukio Kashima / カシマ ユキオ
第1著者 所属(和/英) 丸文株式会社 (略称: 丸文)
Marubun Corporation (略称: Marubun)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 松浦 恵里子 / Eriko Matsuura / マツウラ エリコ
第2著者 所属(和/英) 丸文株式会社 (略称: 丸文)
Marubun Corporation (略称: Marubun)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 嶋谷 聡 / Satoshi Shimatani / シマタニ サトシ
第3著者 所属(和/英) 東京応化工業株式会社 (略称: 東京応化)
Tokyo Ohka Kogyo Co.,Ltd (略称: TOK)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 小久保 光典 / Mitsunori Kokubo / コクボ ミツノリ
第4著者 所属(和/英) 東芝機械株式会社 (略称: 東芝機械)
Toshiba Machine Co.,Ltd (略称: Toshiba Machine)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 田代 貴晴 / Takaharu Tashiro / タシロ タカハル
第5著者 所属(和/英) 東芝機械株式会社 (略称: 東芝機械)
Toshiba Machine Co.,Ltd (略称: Toshiba Machine)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 大川 貴史 / Takafumi Ookawa / オオカワ タカフミ
第6著者 所属(和/英) 東芝機械株式会社 (略称: 東芝機械)
Toshiba Machine Co.,Ltd (略称: Toshiba Machine)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 上村 隆一郎 / Ryuichiro Kamimura / カミムラ リュウイチロウ
第7著者 所属(和/英) 株式会社 アルバック (略称: アルバック)
ULVAC,Inc (略称: ULVAC)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 長田 大和 / Yamato Osada / オサダ ヤマト
第8著者 所属(和/英) 株式会社 アルバック (略称: アルバック)
ULVAC,Inc (略称: ULVAC)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤川 紗千恵 / Sachie Fujikawa /
第9著者 所属(和/英) 独立行政法人 理化学研究所 (略称: 理研)
The Institute of physical and chemical Research (略称: RIKEN)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 平山 秀樹 / Hideki Hirayama / ヒラヤマ ヒデキ
第10著者 所属(和/英) 独立行政法人 理化学研究所 (略称: 理研)
The Institute of physical and chemical Research (略称: RIKEN)
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講演者 第1著者 
発表日時 2014-11-27 14:05:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 LQE 
資料番号 ED2014-79, CPM2014-136, LQE2014-107 
巻番号(vol) vol.114 
号番号(no) no.336(ED), no.337(CPM), no.338(LQE) 
ページ範囲 pp.27-32 
ページ数
発行日 2014-11-20 (ED, CPM, LQE) 


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