| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2014-11-28 16:25
スパッタ膜上への窒化物単結晶pinナノコラム作製 ○野間友博・林 宏暁・福島大史・今野裕太・野村一郎・岸野克巳(上智大) ED2014-97 CPM2014-154 LQE2014-125 |
| 抄録 |
(和) |
紫外から赤外に亘るバンドギャップエンジニアリングが可能な窒化物は魅力的な材料である.しかしながら,含有欠陥の多さからその特長が制限されている.本研究では欠陥低減を特長とする窒化物ナノコラムを,大面積/低コスト化が望めるSiウェハへ作製した.Siウェハでは窒化物成長が困難であるため,スパッタ成膜したAlNを核形成層として用いた.TEM評価と,市販GaN基板に対して5.6倍強いPL発光強度を示したことより,無数の転位を含んだスパッタ膜上であってもナノコラム成長法によって高い結晶性の単結晶作製に成功した.このナノコラムにInGaN多重量子井戸を発光層として搭載し,可視域の広い範囲に渡る単峰性のPLスペクトルを得るとともに,パターニングによりPLピーク波長が制御できることを示した. |
| (英) |
Nitride has an attractive feature of bandgap engineering from ultraviolet to infrared. However, a lot of defects in nitride inhibit the feature. In this study, we demonstrated nitride nanocolumn on Si wafer that is expected realization of large-scale/low-cost devices. Furthermore, nanocolumn structure is expected to suppress propagation of dislocation. We employed a sputter-deposited AlN nucleation layer, because it is so difficult to grow nitride crystal on Si wafer. We successfully fabricated a single crystalline GaN nanocolumns array even on the sputter-deposited film containing high-density dislocations. Single-peak PL emission in wide visible range from integrated InGaN/GaN MQW, and control of PL peak wavelength by pre-patterning were also demonstrated. |
| キーワード |
(和) |
スパッタAlN / シリコンウェハ / ナノコラム / / / / / |
| (英) |
Nanocolumn / Si wafer / Sputter-deposited AlN / / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 114, no. 338, LQE2014-125, pp. 117-120, 2014年11月. |
| 資料番号 |
LQE2014-125 |
| 発行日 |
2014-11-20 (ED, CPM, LQE) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
ED2014-97 CPM2014-154 LQE2014-125 |
| 研究会情報 |
| 研究会 |
LQE ED CPM |
| 開催期間 |
2014-11-27 - 2014-11-28 |
| 開催地(和) |
大阪大学 吹田キャンパス 理工学図書館 |
| 開催地(英) |
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| テーマ(和) |
窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 |
| テーマ(英) |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
LQE |
| 会議コード |
2014-11-LQE-ED-CPM |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
スパッタ膜上への窒化物単結晶pinナノコラム作製 |
| サブタイトル(和) |
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| タイトル(英) |
Fabrication of single crystalline p-i-n nanocolumns array on a sputter-deposited thin film |
| サブタイトル(英) |
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| キーワード(1)(和/英) |
スパッタAlN / Nanocolumn |
| キーワード(2)(和/英) |
シリコンウェハ / Si wafer |
| キーワード(3)(和/英) |
ナノコラム / Sputter-deposited AlN |
| キーワード(4)(和/英) |
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| キーワード(5)(和/英) |
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| キーワード(6)(和/英) |
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| キーワード(7)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
野間 友博 / Tomohiro Noma / ノマ トモヒロ |
| 第1著者 所属(和/英) |
上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
林 宏暁 / Hiroaki Hayashi / ハヤシ ヒロアキ |
| 第2著者 所属(和/英) |
上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
福島 大史 / Daishi Fukushima / フクシマ ダイシ |
| 第3著者 所属(和/英) |
上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
今野 裕太 / Yuta Konno / コンノ ユウタ |
| 第4著者 所属(和/英) |
上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
野村 一郎 / Ichiro Nomura / ノムラ イチロウ |
| 第5著者 所属(和/英) |
上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.) |
| 第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
岸野 克巳 / Katsumi Kishino / キシノ カツミ |
| 第6著者 所属(和/英) |
上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.) |
| 第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2014-11-28 16:25:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
LQE |
| 資料番号 |
ED2014-97, CPM2014-154, LQE2014-125 |
| 巻番号(vol) |
vol.114 |
| 号番号(no) |
no.336(ED), no.337(CPM), no.338(LQE) |
| ページ範囲 |
pp.117-120 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2014-11-20 (ED, CPM, LQE) |